[发明专利]晶片边缘的测量和控制

权利要求书

1.一种用于处理基板的设备，所述设备包括：

腔室主体，所述腔室主体界定内部容积；

基板定位组件，所述基板定位组件设置在所述内部容积中，其中所述基板定位组件能够至少于水平平面内定位和旋转基板；

第一电容式传感器，所述第一电容式传感器设置在所述内部容积中，其中所述第一电容式传感器被定位成面向所述基板的切线、位于与所述基板的圆周具有相同的尺寸的圆的第一位置处，以于第一边缘位置处检测所述基板的边缘位置；

第二电容式传感器，所述第二电容式传感器设置在所述内部容积中，其中所述第二电容式传感器被定位成面向所述基板的切线、位于与所述基板的圆周具有相同的尺寸的圆的第二位置处，以于第二边缘位置处检测所述基板的边缘位置，其中所述第一电容式传感器和所述第二电容式传感器定位于绕着所述圆的圆周为小于180度的分离角度处；

第三电容式传感器，所述第三电容式传感器设置在所述内部容积中、所述第一电容式传感器与所述第二电容式传感器之间的位置处，被定位成比所述第一电容式传感器和所述第二电容式传感器更靠近所述基板的宽度的中点，被定位成使得所述基板的边缘不进入所述第三电容式传感器的视场中，并且被定位成检测所述基板的垂直位置；

旋转传感器，所述旋转传感器设置成监测所述基板上的非均匀性部分的位置并且追踪所述基板的角位置和/或旋转；以及

灯，所述灯设置成向所述基板的下侧提供背光。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一电容式传感器与所述第二电容式传感器被定位成90度角，从而所述第一电容式传感器测量所述基板在X方向上的位置，所述第二电容式传感器测量所述基板在Y方向上的位置。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述旋转传感器包括相机。

4.如权利要求1所述的设备，进一步包括第一组致动器，所述第一组致动器设置成控制所述基板在X和Y方向上的位置。

5.如权利要求4所述的设备，进一步包括第二组致动器，所述第二组致动器设置成施加扭矩以控制所述基板的旋转。