[发明专利]表面改性芳纶及其表面改性方法和应用

权利要求书

1.表面改性芳纶，包括芳纶和表面处理剂，其特征在于，所述表面处理剂为含N-缩水甘油基的环氧树脂，所述表面处理剂在表面改性芳纶中的质量含量为0.2%~5%；其中，所述芳纶在表面处理剂处理前先进行等离子表面处理，所述等离子表面处理为真空等离子进行表面处理，所述真空等离子处理条件为：处理介质为空气、氧气、氮气或氩气，气体流量为10cm³/min~100 cm³/min，等离子发生功率为50w~600w，处理时间为5s~600s；

所述含N-缩水甘油基的环氧树脂中N-缩水甘油基的氮原子直接或通过亚甲基与芳环、联苯环、萘环或脂环连接；

所述含N-缩水甘油基的环氧树脂为含有不少于2个N-缩水甘油基的环氧树脂。

2.根据权利要求1所述的表面改性芳纶，其特征在于，所述含N-缩水甘油基的环氧树脂选自N，N-二缩水甘油基苯胺、N，N-二缩水甘油基萘胺、N，N-二缩水甘油对氨基苯酚缩水甘油醚、N，N-二缩水甘油间氨基苯酚缩水甘油醚、N，N-二缩水甘油邻氨基苯酚缩水甘油醚、1,2-双(N,N-二缩水甘油氨甲基)环己烷、1,3-双(N,N-二缩水甘油氨甲基)环己烷、1,4-双(N,N-二缩水甘油氨甲基)环己烷、四缩水甘油基对苯二胺、四缩水甘油基间苯二胺、四缩水甘油基邻苯二胺、四缩水甘油基联苯二胺、四缩水甘油氨基二苯基甲烷、四缩水甘油氨基二苯基丙烷、四缩水甘油氨基二苯基砜、四缩水甘油氨基二苯基醚以及它们的芳环、联苯环、萘环或脂环上存在甲基、乙基、卤素原子取代基的衍生物中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的表面改性芳纶，其特征在于所述表面处理剂在表面改性芳纶中的质量含量为1.0%~2.5%。

4.根据权利要求1所述的表面改性芳纶，其特征在于所述的芳纶为短切芳纶、连续芳纶或芳纶织物。

5.芳纶的表面改性方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）芳纶进行加热干燥，除去吸附的水分；

（2）干燥后的芳纶进行等离子表面处理；

（3）将等离子表面处理后的芳纶浸渍在表面处理剂或表面处理剂的溶液中，使得所述表面处理剂在表面改性芳纶中的质量含量为0.2%~5%，得到表面改性芳纶；

所述等离子处理为真空等离子处理，工艺条件为：处理介质为空气、氧气、氮气或氩气，气体流量为10cm³/min~100 cm³/min，等离子发生功率为50w~600w，处理时间为5s~600s；

所述表面处理剂为含N-缩水甘油基的环氧树脂，所述含N-缩水甘油基的环氧树脂中N-缩水甘油基的氮原子直接或通过亚甲基与芳环、联苯环、萘环或脂环连接，所述含N-缩水甘油基的环氧树脂为含有不少于2个N-缩水甘油基的环氧树脂。

6.根据权利要求5所述的芳纶的表面改性方法，其特征在于所述含N-缩水甘油基的环氧树脂为N，N-二缩水甘油基苯胺、N，N-二缩水甘油基萘胺、N，N-二缩水甘油对氨基苯酚缩水甘油醚、N，N-二缩水甘油间氨基苯酚缩水甘油醚、N，N-二缩水甘油邻氨基苯酚缩水甘油醚、1,2-双(N,N-二缩水甘油氨甲基)环己烷、1,3-双(N,N-二缩水甘油氨甲基)环己烷、1,4-双(N,N-二缩水甘油氨甲基)环己烷、四缩水甘油基对苯二胺、四缩水甘油基间苯二胺、四缩水甘油基邻苯二胺、四缩水甘油基联苯二胺、四缩水甘油氨基二苯基甲烷、四缩水甘油氨基二苯基丙烷、四缩水甘油氨基二苯基砜、四缩水甘油氨基二苯基醚以及它们的芳环、联苯环、萘环或脂环上存在甲基、乙基、卤素原子取代基的衍生物中的至少一种。

7.根据权利要求5所述的芳纶的表面改性方法，其特征在于所述表面处理剂在表面改性芳纶中的质量含量为1.0%~2.5%。

8.权利要求1~4任一项所述的表面改性芳纶的应用。