[发明专利]相邻结构等效附加阻尼比的目标测算法在审
| 申请号： | 201710975712.9 | 申请日： | 2017-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN107480410A | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 赵雪莲;包联进;钱鹏;邱介尧 | 申请（专利权）人： | 华东建筑设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200002 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 相邻 结构 等效 附加 阻尼 目标 测算 | ||
【权利要求书】：
1.一种相邻结构等效附加阻尼比的目标测算法，其特征在于：
第一步：建立两个数值结构模型，分别为目标单体模型和真实双体模型，所述目标单体模型为仅一个结构1，所述结构1的总阻尼比包括所述结构1固有阻尼比和黏滞阻尼器3给所述结构1的目标附加阻尼比；所述真实双体模型包括所述结构1和结构2及所述黏滞阻尼器3；
第二步：分别计算在弹性时程下的所述目标单体模型和所述真实双体模型的楼层剪力，并画出所述目标单体模型中和所述真实双体模型中的所述结构1楼层剪力曲线图；
第三步：调整所述目标单体模型中的所述目标附加阻尼比，使得所述真实双体模型中的所述结构1的楼层剪力曲线刚好包络所述目标单体模型中所述结构1的楼层剪力曲线；
第四步：调整后的所述目标单体模型中的所述目标附加阻尼比即为所述黏滞阻尼器3附加给所述结构1的等效附加阻尼比。
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