[发明专利]一种光性能监测器

说明书

本发明公开一种光性能监测器，其包括：一基于Etalon的可调谐滤波器，用于信号光输入；一基于MEMS的可调谐滤波器，用于过滤基于Etalon的可调谐滤波器的透过峰；一PD，用于监测光功率。通过扫描控制基于Etalon的可调谐滤波器与基于MEMS的可调谐滤波器的透过峰波长，PD监测光功率，再通过数据处理即可获得监测光的频谱分布，相比与采用可调谐滤波器，一个1×N光分路器或一个1XN光开关，N个WDM膜片和N个PD的方案具有光路简单、扫描速度快、系统光路插损小、可调谐滤波器加工工艺要求低的优点。

技术领域

本发明涉及光通讯领域，尤其涉及一种光性能监测器。

背景技术

基于Etalon的可调谐滤波器具有周期性透过峰的特征，为了获得特定透过峰即特定波长处的光功率，需要对周期性的透过峰进行过滤，目前主要有以下几种方式来实现：

1.通过1×N光分路器将光分成N路，每一路光接一个WDM与PD，由于WDM的存在，每个PD只能接收特定的透过峰，起到了监测特定波长光功率的作用。

2. 通过1×N光开关将光分成N路，每一路光接一个WDM与PD，由于WDM的存在，每个PD只能接收特定的透过峰，起到了监测特定波长光功率的作用。

上述方式1由于1×N光分路器的存在，增大了系统的光路插损，降低了系统的探测能力，优势在于可调谐滤波器扫描一遍即可完成工作波段的光路监测；上述方式2由于采用的是1×N光开关，相比与方式1的优点是降低了系统的光路插损，有利于提高系统的探测能力，缺点是可调谐滤波器需要扫描N遍才能完成工作波段的光路监测。

上述方式1与方式2为了提高光性能监测器的分辨能力，需要可调谐滤波器的带宽尽可能的窄，在保持工作波段内透过峰数量不变的情况下，要求Etalon标准具尽可能的薄，这对工艺提出了更高的要求，同时也会造成加工成本的上升；在增加工作波段内透过峰数量的情况下，能够降低Etalon标准具的工艺难度，但是会相应的增加WDM与PD的数量，提高了系统的复杂度。

发明内容

为了解决现有技术中的不足，本发明的目的在于提供一种光路简单、扫描速度快、系统光路插损小、可调谐滤波器加工工艺要求低的光性能监测器。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种光性能监测器，包括：

一基于Etalon的可调谐滤波器，用于信号光输入；

一基于MEMS的可调谐滤波器，用于过滤基于Etalon的可调谐滤波器的透过峰；

一PD，用于监测光功率。

所述的基于Etalon的可调谐滤波器，具有周期性透过峰的特征，在工作波段的透过峰数量为N。

所述的基于MEMS的可调谐滤波器，具有一个透过峰的特征。

所述的基于Etalon 的可调谐滤波器和基于MEMS的可调谐滤波器级联后，具有至多一个透过峰作用于PD。

所述的基于MEMS的可调谐滤波器的调谐速度大于基于Etalon的可调谐滤波器。

所述的基于MEMS的可调谐滤波器的带宽大于基于Etalon的可调谐滤波器。

本发明采用以上结构，通过扫描控制基于Etalon的可调谐滤波器与基于MEMS的可调谐滤波器的透过峰波长，PD监测光功率，再通过数据处理即可获得监测光的频谱分布，相比与采用可调谐滤波器，一个1×N光分路器或一个1XN光开关，N个WDM膜片和N个PD的方案具有光路简单、扫描速度快、系统光路插损小、可调谐滤波器加工工艺要求低的优点。

附图说明

以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明；