[发明专利]一种低功率起辉的平板PECVD设备有效
申请号: | 201710978035.6 | 申请日: | 2017-10-19 |
公开(公告)号: | CN109680264B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 罗才旺;魏唯;陈锋武;程文进 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;徐好 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 功率 平板 pecvd 设备 | ||
1.一种低功率起辉的平板PECVD设备,其特征在于:包括反应室(1)、以及设于反应室(1)内的上电极环(2)和下电极环(3),所述上电极环(2)和所述下电极环(3)之间设有调节垫环(4),所述上电极环(2)或所述下电极环(3)上设有用于产生尖端放电的伸缩放电天线(5),所述伸缩放电天线(5)配置有回收驱动件(51)。
2.根据权利要求1所述的低功率起辉的平板PECVD设备,其特征在于:所述回收驱动件(51)为回收驱动气缸或电机执行机构。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的低功率起辉的平板PECVD设备,其特征在于:所述反应室(1)侧壁上沿周向均匀安装有多个电子枪(6)。
4.根据权利要求3所述的低功率起辉的平板PECVD设备,其特征在于:所述反应室(1)内设有用于承载工件的载片台(7),所述电子枪(6)包括用于产生热电子的灯丝、以及用于驱动灯丝靠近或远离所述载片台(7)的伸缩驱动件,所述灯丝的电位低于所述载片台(7)。
5.根据权利要求4所述的低功率起辉的平板PECVD设备,其特征在于:所述伸缩驱动件为伸缩驱动气缸或电机执行机构。
6.根据权利要求3所述的低功率起辉的平板PECVD设备,其特征在于:所述反应室(1)上部设有进气管(81),所述上电极环(2)上安装有上匀气板(82),所述下电极环(3)上安装有下匀气板(83),所述反应室(1)下部设有用于将反应室(1)内各处气体均匀抽出的抽气管(84)。
7.根据权利要求4所述的低功率起辉的平板PECVD设备,其特征在于:所述载片台(7)下方设有加热盘(9),所述加热盘(9)内设有加热线圈(91)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的