[发明专利]高能量太赫兹脉冲产生装置

权利要求书

1.一种太赫兹脉冲产生装置，其特征在于，包括：光栅、半波片、光束整形单元、成像单元和铌酸锂晶体；

利用泵浦飞秒激光照射所述光束整形单元，将所述泵浦飞秒激光的光束截面形状由圆形变为椭圆形；

整形后的泵浦飞秒激光通过所述光栅衍射至所述半波片上，经过所述半波片改变所述整形后的泵浦飞秒激光的偏振方向后，再通过所述成像单元后入射至所述铌酸锂晶体上。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光束整形单元具体包括：竖直设置的第一柱透镜和第二柱透镜；

所述第一柱透镜为平凸柱透镜，所述第二柱透镜为平凹柱透镜，所述第一柱透镜与所述第二柱透镜之间的间距为预设距离；

所述泵浦飞秒激光依次照射至所述第一柱透镜和所述第二柱透镜上。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述预设距离为所述第一柱透镜的焦距与所述第二柱透镜的焦距之和的绝对值。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光栅为反射光栅或透射光栅。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述成像单元为单个透镜或双透镜组合。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，当所述成像单元包括第一平凸透镜和第二平凸透镜时，所述光栅位于所述第一平凸透镜的物方焦平面上，所述铌酸锂晶体位于所述第二平凸透镜的像方焦平面上；

所述第一平凸透镜与所述第二平凸透镜之间的间距为所述第一平凸透镜的焦距与所述第二平凸透镜的焦距之和。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：至少一个反射镜；

所述至少一个反射镜设置在所述光束整形单元与所述光栅之间。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的装置，其特征在于，所述经过所述半波片改变所述整形后的泵浦飞秒激光的偏振方向后，所述整形后的泵浦飞秒激光的偏振方向与所述铌酸锂晶体的晶轴平行。

9.根据权利要求1-7中任一项所述的装置，其特征在于，所述成像单元的成像倍数为0.3-0.6倍。

10.根据权利要求1-7中任一项所述的装置，其特征在于，所述光栅的刻线密度为1500-2000线每毫米。