[发明专利]一种防眩光高透率减反射耐摩擦镀膜玻璃及加工工艺在审
申请号: | 201710980314.6 | 申请日: | 2017-10-19 |
公开(公告)号: | CN109678360A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 张忠义;詹达勇;马金成 | 申请(专利权)人: | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/42 | 分类号: | C03C17/42 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 胡剑辉 |
地址: | 518118 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 减反射 玻璃基材 镀膜玻璃 耐摩擦 镀制 眩光 氮化碳层 显示内容 环境光 耐刮伤 喷涂 | ||
本发明公开了一种防眩光高透率减反射耐摩擦镀膜玻璃,其包括有玻璃基材,所述玻璃基材上喷涂有AG膜层,所述AG膜层上镀制有AR膜层,所述AR膜层上镀制有氮化碳层。本发明可有效防止环境光对显示内容的干扰,具有高透减反射和耐刮伤性能。
技术领域
本发明涉及镀膜玻璃,尤其涉及一种防眩光高透率减反射耐摩擦镀膜玻璃及加工工艺。
背景技术
现有技术中,AG防眩光玻璃制备工艺采用的是氢氟酸蚀刻工艺,只能控制光泽度、雾度、粗糙度指标,DOI(影像清晰度)技术指标不可控,可见光透过率只有92%-93%,反射率约为8%,铅笔硬度7H。AR膜层中的高低折射率材料采用的是TiO2、Nb2O5、Ta2O5、Si3N4。膜层结构为Glass/Nb2O5(TiO2、Ta2O5、Si3N4)/SiO2/Nb2O5(TiO2、Ta2O5、Si3N4)/SiO2。在真空反应磁控溅射沉积膜层过程中采用过氧控制和等离子体发射光谱监控法控制。玻璃膜层表面采用PET保护贴进行防划伤保护。
目前,传统的AG防眩光玻璃制备工艺采用的是氢氟酸蚀刻工艺,氢氟酸对皮肤有强烈刺激性和腐蚀性。氢氟酸中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用,而氟是最活泼的非金属元素之一。皮肤与氢氟酸接触后,氟离子不断解离而渗透到深层组织,溶解细胞膜,造成表皮、真皮、皮下组织乃至肌层液化坏死,对人体危害极大,生产过程中产生的废液会造成环境污染。随着国民生活水平的提高,对高危职业预防保护的呼吁越来越高,国家对环保的控制要求越来越严格,采用氢氟酸蚀刻工艺制备AG防眩光玻璃已经不适合规模化生产。
市场上AG防眩光玻璃透过率只能达到92%,反射率约为8%、不能满足各种显示器件的要求。产品不仅满足AG防眩光的效果,还要更进一步提高光的透过率、实现产品的防眩高透减反的目的。
现有手机、电脑、电视、户外广告、医疗仪器、摄像机等显示保护屏玻璃产品表面不抗划伤,频繁的使用不可避免会出现与尖锐硬物碰刮和摩擦,玻璃表面出现刮花现象.这种现象会造成画面质量和阅读效果,且表面不可没法修复。采用的保护办法是在玻璃盖板上加贴一层保护膜(如手机面板),即增加了费用成本又降低了透过率,耗能增加和频繁更换膜给用户带来极大的困扰。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术的不足,提供一种可有效防止环境光对显示内容的干扰、具有高透减反射和耐刮伤性能的防眩光高透率减反射耐摩擦镀膜玻璃及加工工艺。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案。
一种防眩光高透率减反射耐摩擦镀膜玻璃,其包括有玻璃基材,所述玻璃基材上喷涂有AG膜层,所述AG膜层上镀制有AR膜层,所述AR膜层上镀制有氮化碳层。
优选地,所述AG膜层包括有硅树脂层。
优选地,所述AR膜层包括有第一三氧化二钬层、第一二氧化硅层、第二三氧化二钬层和第二二氧化硅层,所述第一三氧化二钬层、第一二氧化硅层、第二三氧化二钬层和第二二氧化硅层采用真空磁控溅射方式依次镀制于硅树脂层上。
优选地,所述氮化碳层采用真空磁控直流溅射方式镀制于第二二氧化硅层上。
优选地,硅树脂层的厚度为400nm~550nm.
优选地,所述第一三氧化二钬层的厚度为9nm~12nm,所述第一二氧化硅层的厚度为32nm~36nm,所述第二三氧化二钬层的厚度为108nm~114nm,所述第二二氧化硅层的厚度为58nm~62nm。
优选地,所述氮化碳层的厚度为8nm~12nm。
一种防眩光高透率减反射耐摩擦镀膜玻璃加工工艺,该工艺包括:步骤S1,准备玻璃基材;步骤S2,在所述玻璃基材上喷涂AG膜层;步骤S3,在所述AG膜层上镀制AR膜层;步骤S4,在所述AR膜层上镀制氮化碳层。
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