[发明专利]基于二阶近似公式的反射面天线表面随机误差分析方法有效
申请号: | 201710981491.6 | 申请日: | 2017-10-20 |
公开(公告)号: | CN107679336B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 张树新;张顺吉;段宝岩;张逸群;李鹏;杜敬利;宋立伟;杨东武 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;G06F30/17 |
代理公司: | 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 | 代理人: | 张超 |
地址: | 710071 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 近似 公式 反射 天线 表面 随机误差 分析 方法 | ||
1.基于二阶近似公式的反射面天线表面随机误差分析方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)输入反射面天线几何参数与电参数
输入用户提供的反射面天线几何参数与电参数;其中几何参数包括半径、焦距;电参数包括工作波长、口径场幅度分布函数、锥销电平、口径场形状指数以及包括天线增益、波瓣宽度、副瓣电平、指向精度在内的电性能要求;
(2)输入口径面划分环数
根据用户提供的天线几何参数,将反射面口径面按照半径方向等分为N段,其中N为输入的口径面划分环数;
(3)输入表面随机误差均方根值
根据反射面天线面板加工制造误差,输入天线表面随机误差均方根值;
(4)计算每环口径内远区辐射电场;
(5)计算环与环之间远区辐射电场;
(6)计算理想远区辐射功率
根据天线几何参数、环与环之间远区辐射电场信息,通过下式计算理想远区辐射功率
其中,G(u)表示观察方向u上的理想远区辐射功率,u表示远场观察方向,π为圆周率,a为天线几何参数中的半径,N为口径面划分环数,n、m表示口径面上第n、m环,En,n-1表示相邻第n环与第n-1环之间远区辐射电场,Em,m-1表示相邻第m环与第m-1环之间远区辐射电场,上标*表示共轭运算;
(7)计算理想远区辐射功率平方值;
(8)计算辐射功率平均值;
(9)计算辐射功率方差;
(10)计算辐射功率极值;
(11)判断电性能是否满足要求
判断辐射功率的平均值、方差与极值是否满足天线增益、波瓣宽度、副瓣电平、指向精度在内的电性能要求,如果满足要求则转至步骤(12),否则转至步骤(13);
(12)输出辐射功率方向图
当辐射功率的平均值、方差与极值满足天线电性能要求时,输出辐射功率方向图;
(13)更新表面随机误差均方根值
当辐射功率的平均值、方差与极值不满足天线电性能要求时,更新表面随机误差均方根值,转至步骤(3);
步骤(8)中所述的计算辐射功率平均值,其具体方法如下:
根据理想远区辐射功率,结合输入的表面随机误差均方根值,通过下式计算辐射功率平均值
其中,P(u)表示观察方向u上的辐射功率,u表示远场观察方向,μ(P(u))表示观察方向u上的辐射功率平均值,G(u)表示观察方向u上的理想远区辐射功率,π为圆周率,λ为工作波长,ε为输入的表面随机误差均方根值;
步骤(9)中所述的计算辐射功率方差,其具体方法如下:
根据理想远区辐射功率平方值,结合输入的表面随机误差均方根值,通过下式计算辐射功率方差
其中,P(u)表示观察方向u上的辐射功率,u表示远场观察方向,σ2(P(u))表示观察方向u上的辐射功率方差,W(u)表示观察方向u上的理想远区辐射功率平方值,π为圆周率,λ为工作波长,ε为输入的表面随机误差均方根值;
步骤(10)中所述的计算辐射功率极值,其具体方法如下:
根据辐射功率平均值与辐射功率方差,通过下式计算辐射功率极值
其中,
2.如权利要求1所述的基于二阶近似公式的反射面天线表面随机误差分析方法,其特征在于,步骤(4)中所述的计算每环口径内远区辐射电场,其具体方法如下:
根据天线口径场幅度方向图、口径面划分环数,通过下式计算每环口径内远区辐射电场
其中,En表示第n环口径内远区辐射电场,u表示远场观察方向,n表示口径面上第n环,N为口径面划分环数,ρ表示口径面内节点归一化极坐标分量,Q(ρ)表示用户输入的口径场幅度分布函数,J0(uρ)表示变量为uρ的零阶Bessel函数,dρ表示ρ的微分形式。
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