[发明专利]一种柔性基板及其制备方法、显示器

权利要求书

1.一种柔性基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

通过狭缝式涂布设备在衬底基板上涂布聚酰亚胺以形成聚酰亚胺薄膜，然后将所述聚酰亚胺薄膜高温固化成型以形成第一有机层，所述衬底基板为玻璃基板；

通过化学气相沉积法在所述第一有机层上沉积硅化物以形成第一缓冲层；

通过化学气相沉积法在所述第一缓冲层上沉积SiN或/和SiO以形成无机层，所述无机层的厚度为400～1200nm；

通过狭缝式涂布设备在所述无机层的上方涂布聚酰亚胺以形成聚酰亚胺薄膜，然后将所述聚酰亚胺薄膜高温固化成型以形成第二有机层；

其中，通过在所述第一有机层及所述无机层之间形成所述第一缓冲层，以增强所述第一有机层与所述无机层之间的粘附性，进而降低所述柔性基板在折弯过程中所述第一有机层与所述无机层发生脱落的风险；

所述方法进一步包括：

在所述无机层上形成第二缓冲层；

所述在所述无机层的上方形成第二有机层包括：

在所述第二缓冲层上形成所述第二有机层；

所述第一缓冲层的厚度为10～50nm。

2.一种柔性基板，其特征在于，所述柔性基板包括：

在衬底基板上形成的第一有机层，所述衬底基板为玻璃基板；

在所述第一有机层上形成的第一缓冲层；

在所述第一缓冲层上形成的无机层；

在所述无机层上方的第二有机层；

其中，通过在所述第一有机层及所述无机层之间形成所述第一缓冲层，以增强所述第一有机层与所述无机层之间的粘附性，进而降低所述柔性基板在折弯过程中所述第一有机层与所述无机层发生脱落的风险，所述柔性基板进一步包括在所述无机层上形成的第二缓冲层，所述第二有机层形成于所述第二缓冲层上，所述第一缓冲层的材质为a-Si、SiN、SiO中的一种或多种，所述第一缓冲层的厚度为10～50nm。

3.一种显示器，其特征在于，所述显示器包括权利要求 2所述的柔性基板。