[发明专利]一种清除膜污染并控制副产物生成的组合式化学清洗方法

权利要求书

1.一种清除膜污染并控制副产物生成的组合式化学清洗方法，其特征在于，将受污染的膜组件采用过硫酸盐氧化剂和含有次氯酸根的氧化剂进行联合清洗，具体方法包括：

先在所述过硫酸盐氧化剂水溶液中浸泡，再在所述含有次氯酸根的氧化剂水溶液中浸泡；其原理是利用过硫酸盐氧化剂攻击膜表面附着的污染物质，通过氧化还原反应使其脱落从而清除膜污染，同时减少膜组件表面能够与次氯酸盐反应生成毒性副产物的前体物，然后在含有次氯酸根的氧化剂中浸泡能够进一步去除膜表面的污染物质，使膜通量得到有效恢复，同时大大减少毒性副产物的生成；

所述含有次氯酸根的氧化剂水溶液中次氯酸根的浓度为1～1000mg/L；所述过硫酸盐氧化剂和含有次氯酸根的氧化剂的浓度比为1:1～10。

2.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述的过硫酸盐为过一硫酸盐或过二硫酸盐。

3.如权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述的过硫酸盐为过一硫酸钾、过一硫酸钠、过二硫酸钾和过二硫酸钠中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述含有次氯酸根的氧化剂选自次氯酸、次氯酸钠和次氯酸钾中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，在所述过硫酸盐氧化剂水溶液中的浸泡时间为1～24h；在所述含有次氯酸根氧化剂水溶液中的浸泡的时间为1～24h。

6.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述过硫酸根氧化剂水溶液和所述含有次氯酸根氧化剂水溶液的pH范围控制在2～12之间。

7.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述膜组件为聚偏氟乙烯、聚醚砜、聚乙烯、聚氯乙烯或陶瓷膜。

8.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述受污染的膜组件为受有机污染、无机污染、微生物污染或代谢产物污染的膜组件。