[发明专利]一种用于生长钼酸锶晶体的方法有效

专利信息
申请号: 201710991667.6 申请日: 2017-10-23
公开(公告)号: CN107723796B 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 李凌云;王国强;于岩;潘坚福;杨志锋 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: G02B1/02 分类号: G02B1/02;C30B29/32;C30B9/12
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350116 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 生长 钼酸 晶体 方法
【说明书】:

本发明提供一种用于生长SrMoO4晶体或者激活离子掺杂SrMoO4晶体的方法,采用顶部籽晶助熔剂法制备,所用助熔剂为Na 2MoO4+B2O3或K2MoO4+B2O3的复合助熔剂。在复合助熔剂体系中,Na2MoO4或K2MoO4与B2O3的摩尔比为4:1,激活离子为Tm3+、Ho3+、Yb3+、Er3+或Pr3+。本发明所述的制备SrMoO4晶体技术方法,可以将SrMoO4晶体的生长温度降低,同时还可以有效降低熔体体系在生长过程中的挥发性,稳定晶体的生长环境。

技术领域

本发明的内容为一种用于生长SrMoO4 晶体或者激活离子掺杂SrMoO4 晶体的方法,涉及光电子功能材料技术领域,尤其是涉及制备一种可以作为固体光功能器件的工作介质的人工晶体技术领域。

背景技术

钼酸盐晶体由于有着高密度、良好的热稳定和辐射稳定性、理想的闪烁发光效率,使它们在光致发光装置、固态激光器、光纤、粒子探测等方面应用较多。

碱土金属钼酸盐ReMoO4(Re=Mg, Sr)是一类重要的光学晶体基质。SrMoO4是该体系中的重要一员,它属于四方晶系,空间群为I41/a,晶胞参数为:a=5.3897Å, c=12.0209Å, z=4。在该晶体中,Sr原子为八配位,Mo原子为四配位。每6个SrO8多面体通过共用Sr-O多面体的一条边而形成一个Sr6O42基团相互联系在一起,SrMoO4的晶体骨架可以看做是这些Sr6O42基团通过共用氧原子的形式连接而成的笼状结构,MoO4四面体就填充在这些笼状结构的空隙处。

SrMoO4为同成分熔化化合物,其融化温度为1460℃。该晶体可以通过提拉法制备,科研工作者利用提拉法制备了SrMoO4以及掺杂了Tm3+、Ho3+、Yb3+、Er3+和Pr3+等激活离子的SrMoO4晶体。同时,中国专利CN200810070582.5、CN200810070576.X、CN200810070568.5分别公开了制备掺杂Nd3+、Yb3+和Tm3+离子的SrMoO4单晶的制备方法,它们采用的都是提拉法。该化合物熔点较高,且原料中的MoO3饱和蒸汽压较低,在高温下易挥发从而导致原料偏离标准化学计量比,所以通常利用提拉法生长出来的SrMoO4单晶光学质量有待提高。因此,现有的制备SrMoO4单晶的方法中存在以下两个问题亟待解决:1,生长温度高;2,熔体在高温下挥发严重。为解决上述两个问题,中国专利CN200710009975.0公布了一种改进的提拉法用于生长SrMoO4单晶。在该改进的提拉法中,作者引入NaMoO4 作为助熔剂,将SrMoO4单晶的生长温度降低到了1200℃。但是,这种改进的提拉法仍然没有有效降低该晶体的生长温度,同时NaMoO4 的加入对减小熔体体系在高温下的挥发性没有实质作用。

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