[发明专利]用于在检查对象时自适应采样的方法和其系统

权利要求书

1.一种检查对象的方法，所述方法包括：

(a)通过处理器，识别多个潜在缺陷，所述多个潜在缺陷中的每个潜在缺陷与潜在缺陷位置相关联；

(b)通过所述处理器，执行所述多个潜在缺陷的第一聚类以获得第一子集和一个或多个第二子集，所述聚类根据潜在缺陷位置之间的空间距离而被执行，使得所述第一子集中的潜在缺陷表征为：在至少一个物理区域中的比所述一个或多个第二子集中的潜在缺陷更高的密度；

(c)通过所述处理器，将第一概率分配给所述第一子集中的潜在缺陷以作为有效缺陷，所述第一概率根据第一方针而被计算；

(d)通过所述处理器，将第二概率分配给所述一个或多个第二子集中的潜在缺陷以作为有效缺陷，所述第二概率根据一个或多个第二方针而被计算，所述一个或多个第二方针规定如何组合与潜在缺陷位置相关联的至少两个第二因素；

(e)通过所述处理器，根据第三方针来从所述第一子集和所述一个或多个第二子集选择至少一个潜在缺陷以供审查工具进行审查，所述第三方针规定如何将来自多个子集的潜在缺陷组合为合并列表，并且其中选择至少一个潜在缺陷以供审查工具进行审查进一步根据指示如何根据来自所述审查工具的审查次数来组合来自所述合并列表的最高元素和来自所述合并列表的随机选择元素的策略；

(f)通过所述处理器，接收用于与选定的所述至少一个潜在缺陷相关联的潜在缺陷列表中的潜在缺陷的有效性或类别指示，所述有效性或类别指示在所述潜在缺陷列表中的潜在缺陷由所述审查工具审查之后被接收；以及

(g)在未观察到停止标准后：

(i)通过所述处理器，根据所述第一子集和所述一个或多个第二子集中的项的有效性或分类来更新所述第一方针、所述第二方针或所述第三方针；以及

(ii)通过所述处理器，根据所更新的所述第一方针、所述第二方针或所述第三方针重复步骤(c)-(g)，直至观察到所述停止标准。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述停止标准选自以下项中的至少一者：由所述审查工具审查的预定数量的潜在缺陷、多个表明潜在缺陷有效的指示的收敛、以及被检测到的与特定缺陷类别相关联的预定数量的缺陷。

3.根据权利要求1所述的方法，其中决策置信水平被接收以用于所述有效性或类别指示中的至少一者。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一个物理区域选自以下项中的至少一者：区域、在开线附近的区域、以及在闭线附近的区域。

5.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：基于除几何位置之外的特性执行对所述一个或多个第二子集的第二聚类。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述第二聚类的所述特性包括选自以下项中的至少一项：晶片在潜在缺陷的位置处的阴影或颜色、所述晶片在所述潜在缺陷的区域处的背景阴影或背景颜色、在所述潜在缺陷附近的边缘、在所述潜在缺陷附近的特征、在所述潜在缺陷附近的多边形、边缘或拐角的数量和它们的密度。

7.根据权利要求5所述的方法，其中所述第二聚类提供用于确定与用于所述第二聚类的特性相关的位于密集区域中的潜在缺陷，从而提供用于确定系统潜在缺陷。

8.根据权利要求5所述的方法，其中所述至少两个第二因素选自以下项中的至少一者：

位于与用于所述第二聚类的所述特性相关的特征空间中的稀疏的区域处；

位于与用于所述第二聚类的所述特性相关的特征空间中密集的区域的异常值区域处；

接近已验证的潜在缺陷；以及

上述中的两个或更多个的组合，

从而提供用于确定随机潜在缺陷。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述随机潜在缺陷与通过不同工具或在不同条件下进行的至少两个扫描相关联。