[发明专利]一种降低99氧化铝陶瓷烧结温度的方法有效
申请号: | 201711001066.2 | 申请日: | 2017-10-24 |
公开(公告)号: | CN107619265B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 乐士儒;朱晓东;孙克宁 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10;C04B35/622;C04B35/64 |
代理公司: | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 周新楣 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 99 氧化铝陶瓷 烧结 温度 方法 | ||
一种降低99氧化铝陶瓷烧结温度的方法,属于特种陶瓷制造领域。所述方法如下:称取99~99.9份氧化铝和0.1~1份氧化锂,加入球磨机中,倒入溶剂,球磨,然后在烘箱中干燥,然后放入金属模具中,压制成条状或圆片状,然后升温至1350~1550℃,保温1~3 h进行烧结,获得致密的99氧化铝陶瓷。本发明的优点是:本发明是将Li2O作为99氧化铝陶瓷的烧结助剂进行研究,发现加入少量Li2O,在1450℃保温3小时,可以获得表面光滑平整、致密度达到96%以上的99氧化铝陶瓷基板和99氧化铝陶瓷件,烧结温度从1750℃降低到1450℃,降低了生产能源成本、延长窑炉的使用寿命。
技术领域
本发明属于特种陶瓷制造领域,具体涉及一种降低99氧化铝陶瓷烧结温度的方法。
背景技术
氧化铝作为较早开始利用的无机非金属材料,具有较低的比重和良好的高温稳定性,较好的耐磨、耐腐蚀、耐高温及电绝缘性能,可用作磨料、磨具、刀具、轴承、喷嘴、真空器件、电路基板和生物陶瓷。例如Pt- Rh热电偶保护管、铂丝电阻温度计保护管、压制和锻造用型材、火箭喷管、坩埚、纯金属锰的蒸馏装置、电子管钨丝支撑架、金属拔丝模、合成纤维导丝轮、泥水泵套环、球磨机瓷球、湿式旋流器喷出口、火花塞等。99氧化铝陶瓷基板或99氧化铝陶瓷结构件通常需要在较高的烧结温度(≥1750 ℃)下进行烧结。由于烧结温度极高,超过一般连续式电热隧道窑的极限使用温度(1680 ℃),现有的连续式电热隧道窑不能满足烧结要求,必须采用间歇式氢气气氛炉或传统热压烧结炉,而气氛炉或热压烧结的方法都对设备要求高,产量少,成本高。过高的烧结温度,除能源成本消耗较高以外,窑炉和窑具损耗大。
专利公告号CN1533999,公开日20041006“低温烧结的99氧化铝陶瓷及其制造方法和用途”里将Y2O3、ZrO2、MgO中的两种或三种混合组成助烧剂来降低99氧化铝陶瓷的烧结温度,但该专利中并未提到可以使用Li2O作为99氧化铝陶瓷的烧结助剂。论文《氧化铝陶瓷烧结助剂研究概述》(江苏陶瓷,2012(8)20-23)提到氧化铝陶瓷烧结助剂可分为单相烧结助剂、二元烧结助剂以及三元、四元、五元烧结助剂体系,其中单相烧结助剂有Ti、Nb、Co、Ge、Mn、Ca、Y、Tb、Ce、Zr、Co,但并未提及Li2O可以作为99氧化铝陶瓷的烧结助剂。专利公布号CN102627447A,公开日20120808“一种低温热压快速烧结高热导率氧化铝基透明陶瓷的方法” 公布了一种以二氧化硅和碳酸锂作为烧结助剂,用放电等离子烧结法制备高热导率氧化铝基透明陶瓷的方法。专利公告号 CN101654366A,公开日20100224“复合助烧剂及其用于低温纳米晶陶瓷的方法”公开了烧结助剂包括Lu,Na,Ca,In,Mg,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Bi,使用至少两种烧结助剂,适用于经过二元或三元掺杂的CeO2、ZrO2纳米晶陶瓷。
发明内容
本发明的目的是为了解决99氧化铝陶瓷烧结温度较高的问题,提供一种降低99氧化铝陶瓷烧结温度的方法,该种方法采用了一种新的烧结助剂Li2O,可使烧结温度显著降低。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案如下:
一种降低99氧化铝陶瓷烧结温度的方法,所述方法如下:按照质量份数称取99~99.9份氧化铝和0.1~1份氧化锂,将氧化铝和氧化锂加入球磨机中,倒入蒸馏水或无水乙醇作为溶剂,溶剂与氧化铝和氧化锂两者的质量比为3~10:1,球磨 0.5~24 h,然后在烘箱中干燥0.5~12 h,干燥温度为80 ℃~200 ℃,干燥后的粉料放入金属模具中,在100-300 MPa下压制成条状或圆片状,以0.5~3 ℃/min升温,升温至1350 ℃~1550 ℃,在此温度下保温1~3 h进行烧结,获得致密的99氧化铝陶瓷。
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