[发明专利]一种通过碳掺杂提高常压烧结氮化硅陶瓷热导率的方法有效

专利信息
申请号: 201711001140.0 申请日: 2017-10-24
公开(公告)号: CN109694253B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 张景贤;段于森;李晓光 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/584 分类号: C04B35/584;C04B35/622
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 通过 掺杂 提高 常压 烧结 氮化 陶瓷 热导率 方法
【权利要求书】:

1.一种通过碳掺杂提高常压烧结氮化硅陶瓷热导率的方法,其特征在于,包括:

将氮化硅粉体、烧结助剂和碳源混合,得到混合粉体,所述碳源为酚醛树脂、壳聚糖、无水葡萄糖、麦芽糖、果糖和淀粉中的至少一种,所述碳源和氮化硅粉体的质量比为(0.25~5):1;所述烧结助剂为三元烧结助剂TiO2、Y2O3和MgO,其中MgO、TiO2和Y2O3的摩尔比为(5~12):(4~10):1;

将所得混合粉体经成型、排胶,得到陶瓷坯体;

将所得陶瓷坯体置于烧结炉中在1600~1800℃下常压烧结,得到致密氮化硅陶瓷。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述氮化硅粉体和烧结助剂的质量比为(95~70):(5~30)。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述氮化硅粉体和烧结助剂的质量比为(95~85):(5~15)。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述碳源和氮化硅粉体的质量比为(0.25~3%):1。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述氮化硅粉体的粒径范围为0.5~3μm。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述烧结助剂的纯度为99%以上,平均粒径小于5μm。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述碳源的纯度为99%以上。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述排胶的温度为600~900℃,时间为1~4小时;所述排胶的升温速率范围为1~30℃/分钟,降温速率范围为1~30℃/分钟或者随炉降温。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述常压烧结的时间为0.5~14小时;所述常压烧结分为两个阶段,第一阶段和第二阶段的烧结温度不同,第一阶段保温时间为0.5~6小时,第二阶段保温时间不超过8小时。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的方法,其特征在于,所述常压烧结的气氛为保护气氛。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述常压烧结的气氛为氩气、氮气、氦气中的至少一种。

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