[发明专利]纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S101：将高纯铝片退火处理后用丙酮和乙醇超声清洗，然后用氢氧化钠溶液清洗，再进行电化学抛光处理；

S102：将所述步骤S101处理过的高纯铝片作为阴极，石墨片作为阳极，通过稳压直流电源施加电压，用反向电流在电解液中进行处理；所述电解液为添加了稀土盐的硫酸溶液；

S103：将盛装所述电解液的电解槽放入冰水混合物中，然后将所述步骤S102处理过的高纯铝片作为阳极，石墨片作为阴极，对所述高纯铝片进行一次氧化，然后将所述高纯铝片放入铬酸和磷酸混合溶液中去除一次氧化膜；其中，所述铬酸和磷酸的混合溶液中，铬酸的质量分数为1.5wt％～2wt％，所述磷酸的质量分数为5wt％～7wt％；所述混合溶液的温度为50℃～70℃；

S104：将盛装所述电解液的电解槽放入冰水混合物中，然后将所述步骤S103处理过的高纯铝片作为阳极，石墨片作为阴极，对所述高纯铝片进行二次氧化，然后去除铝基底，得到纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板。

2.根据权利要求1所述的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板的制备方法，其特征在于，在所述步骤S101中，退火处理的温度为490℃～510℃，退火处理的时间为1.5h～2.5h。

3.根据权利要求1所述的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板的制备方法，其特征在于，超声清洗的温度为45℃～55℃，超声频率为75Hz～85Hz，超声时间为3min～8min。

4.根据权利要求1所述的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板的制备方法，其特征在于，氢氧化钠溶液的浓度为3wt％～5wt％，用氢氧化钠清洗的时间为3min～8min。

5.根据权利要求1所述的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板的制备方法，其特征在于，电化学抛光处理时采用的抛光液为乙醇和高氯酸混合溶液；其中，乙醇和高氯酸的体积比为(3～5):1，混合溶液温度为3℃～5℃；电化学抛光处理时间为1min/次～3min/次，电化学抛光处理次数为2次～4次。

6.根据权利要求1所述的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板的制备方法，其特征在于，稳压直流电源电压为18V～22V，反向电流处理时间5min～15min；电解液为摩尔浓度为0.5mol/L的硫酸溶液中添加1g/L～2g/L的Ce(NO₃)₃或摩尔浓度为0.5mol/L的硫酸溶液中添加1g/L～2g/L的La(NO₃)₃，电解液的温度为-5℃～5℃。

7.根据权利要求1所述的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板的制备方法，其特征在于，一次氧化时间为18h～22h，二次氧化时间为5h～7h。

8.权利要求1-7任一项制备方法得到的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板。

9.权利要求8所述的纳米尺度孔间距阳极氧化铝模板，其孔间距为40nm～50nm。