[发明专利]一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置，属于光学、仪器与分析技术领域。

背景技术

采用透镜将目标物质的发射光聚焦之后，经光纤传导后，并通过光谱仪对目标物质的特征光谱信号进行精确的定量分析，是目前环境、食品等样品检测中最常用的方法之一。而实际检测过程中，一些液体飞沫、灰尘以及其它可飞溅至光学器件表面的介质会不可避免地污染光学元件，造成光学器件的损毁，降低光学元件的检测性能及使用寿命。因此，克服光学元件污染，延长光学元件的使用寿命并维持较高的使用性能是本领域技术人员所要解决的主要技术问题之一。

一些研究人员曾尝试通过在透镜前放置石英片的方式来阻挡飞溅的介质对透镜的污染，可以在一定程度上降低对元件表面的污染。本申请发明人在研究中发现，随着时间的增加，石英片表面的飞溅物也会增多，从而降低光的透过率、影响后期检测的准确性；另外，加装的石英片可能会对物质的发射光有一定的吸收，这同样也会影响光学元件的检测性能。

发明内容

本申请实施例提供一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置，起到保护光学器件，使其免受各种飞溅物质的污染，避免光学器件损毁，减少光学器件性能损失的作用。

本发明提供一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置，包括：

供气装置、气流管道和装置本体；

所述气流管道将所述供气装置和所述装置本体连通；

所述装置本体包括气体入口、气体通道和气体出口，所述气流管道在所述气体入口将气流导入所述气体通道，气流经气体通道传输后由气体出口排出；

从所述气体出口排出的压力气流形成气流平面，喷射在光学元件的周围起到保护作用。

进一步地，气体通道是一个扁平的漏斗形状的腔体，气体出口为长条状的直缝隙。

进一步地，所述装置本体为圆心向下的弧体，所述气体入口位于弧体的侧面中心处，所述气体出口位于弧体底部，所述气体出口为曲面扁平狭缝。

进一步地，所述装置本体为圆心向下的弧体，所述气体入口位于弧体的侧面中心处，所述气体出口位于弧体底部，所述气体出口为均匀排布的多个出气孔。

进一步地，所述供气装置为气泵，气泵流速为500ml/min。

进一步地，所述装置本体位于光学元件斜上方，距光学元件平行距离1cm，垂直距离1.5cm。

进一步地，所述装置本体的弧体半径为10cm，角度为90°，厚度0.5cm。

进一步地，所述气流管道为橡胶管，所述气体入口的直径为2cm；所述橡胶管外径为2cm；内径为1.5cm。

进一步地，所述出气孔数量为100个，孔径200μm。

进一步地，气体通过所述装置本体后形成平面或者曲面的致密气流层。

进一步地，所述装置本体材质可选用PEEK或不锈钢。

本发明的气体保护装置，形同设置在光学元件周围的隐形隔板，既能保护光学元件，又不影响测量精度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置的使用状态示意图；

图3为本发明另一实施例提供的一种光谱分析仪器中光学元件的气体保护装置的使用状态示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。