[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201711007340.7 申请日: 2017-10-25
公开(公告)号: CN108022900B 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 奥西敕子;清原俊范 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/31;H01L21/60;H01L21/603
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 高培培;车文
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具有:

半导体芯片,具有绝缘膜,该绝缘膜形成于第一主面,且具备将第一接合面露出的第一开口部和将第二接合面露出的第二开口部;

第一源极丝线,与所述半导体芯片的所述第一接合面接合;

第二源极丝线,与所述半导体芯片的所述第二接合面接合;及

密封体,以与所述半导体芯片的所述第一接合面及所述第二接合面相接的方式将所述半导体芯片、所述第一源极丝线、所述第二源极丝线密封,

所述第一接合面及所述第二接合面由金属材料构成,

所述密封体由树脂材料构成,

所述第一源极丝线具有:接合于所述第一接合面的第一连接部;接合于所述第一接合面的第二连接部;及在俯视观察的第一方向上位于所述第一连接部与所述第二连接部之间,且与所述第一接合面分离的第一环部,

所述第二源极丝线具有:接合于所述第二接合面的第三连接部;接合于所述第二接合面的第四连接部;及在俯视观察下位于所述第三连接部与所述第四连接部之间,且与所述第二接合面分离的第二环部,

在俯视观察下,所述第一环部具有沿所述第一方向从所述第一连接部延伸至所述第二连接部的第一边和所述第一边的相反侧的第二边,

在俯视观察下,所述第二环部具有沿所述第一方向从所述第三连接部延伸至所述第四连接部的第三边和所述第三边的相反侧的第四边,

在俯视观察下,以使所述第一环部的所述第二边与所述第二环部的所述第三边相互相邻的方式,沿与所述第一方向交叉的第二方向配置所述第一开口部及所述第二开口部,

在俯视观察下,所述绝缘膜中夹在所述第一源极丝线与所述第二源极丝线之间的第一区域的宽度比所述第一环部的宽度大,

在俯视观察下,所述第一区域的宽度比所述第一开口部的开口宽度及所述第二开口部的开口宽度的各个小,

所述第一区域的宽度、所述第一环部的宽度、所述第一开口部的开口宽度及所述第二开口部的开口宽度是所述第二方向上的长度。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

所述第一接合面是形成于所述第一主面且由所述绝缘膜覆盖的第一电极的第一部分,

所述第二接合面是形成于所述第一主面且由所述绝缘膜覆盖的所述第一电极的第二部分。

3.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

所述第一接合面是形成于所述第一主面且由所述绝缘膜覆盖的第一电极的第一部分,

所述第二接合面是形成于所述第一主面且由所述绝缘膜覆盖的第二电极的第一部分。

4.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

在所述第二方向上,所述第二源极丝线的所述第三连接部的宽度比所述绝缘膜的所述第一区域的宽度小且与所述第一源极丝线的所述第一连接部的宽度不同。

5.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

在所述第二方向上,所述第二源极丝线的所述第三连接部的宽度与所述第一源极丝线的所述第一连接部的宽度相等。

6.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

在所述第二方向上,所述第一接合面中夹在所述第一源极丝线与所述第一接合面的沿所述第一方向的第二边之间的区域的最大宽度比所述绝缘膜的所述第一区域的宽度小。

7.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

在所述第二方向上,所述第一接合面中夹在所述第一源极丝线与所述第一接合面的沿所述第一方向的第二边之间的区域的最大宽度及夹在所述第一源极丝线与所述第一接合面的沿所述第一方向且所述第二边的相反侧的第一边之间的区域的最大宽度的合计值比所述绝缘膜的所述第一区域的宽度小。

8.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

在所述第二方向上,夹在所述第一源极丝线与所述第二源极丝线之间的区域中的夹在所述第一源极丝线与所述第一接合面的沿所述第一方向的第二边之间的区域的最大宽度及夹在所述第二源极丝线与所述第二接合面的沿所述第一方向且所述第二边的相反侧的第一边之间的区域的最大宽度的合计值比所述绝缘膜的所述第一区域的宽度小。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711007340.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top