[发明专利]一种用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料，其特征在于，所述近红外辐射陶瓷涂料包括甲组份和乙组份，所述甲组份和乙组份的质量比为20：1；

其中，甲组份包括以下组分，按重量份数计：

环氧树脂 15~20份；

硼硅玻璃粉 24~45份；

二氧化硅 5~10份；

碳化硅 7~15份；

碳化硼 2~7份；

二硼化钛 2~5份；

二硼化铪 2~5份；

二硼化锆 2~5份；

溶剂 10~15份；

触变剂 2~3份；

乙组分包括以下组分，按重量份数计：

固化剂 75~85份；

乙醇 15~25份。

2.根据权利要求1所述的用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料，其特征在于，所述硼硅玻璃粉、碳化硅、二氧化硅、碳化硼、二硼化钛、二硼化铪和二硼化锆的粒径均为300~325目。

3.根据权利要求1所述的用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料，其特征在于，所述环氧树脂为酚醛环氧树脂。

4.根据权利要求1所述的用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料，其特征在于，所述溶剂选自二甲苯、甲苯和丙酮中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料，其特征在于，所述触变剂选自气相二氧化硅和有机膨润土中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的一种用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料，其特征在于，所述固化剂选自聚酰胺和酚醛胺中的一种或多种。

7.一种如权利要求1-6任一所述的用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将硼硅玻璃粉、碳化硅、二氧化硅、碳化硼、二硼化钛、二硼化铪和二硼化锆粉体按比例混合球磨，得到混合粉体；

将环氧树脂、触变剂和溶剂按比例混合搅拌分散，得到溶解均匀的环氧树脂溶液；

将混合粉体加入到环氧树脂溶液中搅拌、剪切得到甲组份；

将固化剂溶于乙醇得到乙组份；

将甲组份和乙组份按比例混合均匀，得到所述用于乙烯裂解炉的近红外辐射陶瓷涂料。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述球磨时间为2-3小时。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述球磨时间为3小时。

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述球磨的球料比为3：1。

11.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述混合粉体的粒径为300~325目。

12.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述将混合粉体加入到环氧树脂溶液中搅拌的条件为：搅拌的转速为7500转/分，搅拌的时间为30~60分钟。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，搅拌的时间为30分钟。