[发明专利]液浸构件及曝光装置

说明书

本发明的液浸构件(5)，是在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)，使得从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满。液浸构件具备配置在光学构件周围至少一部分的第1构件(21)与能在第1构件的至少一部分的外侧移动、具有回收液浸空间的液体的至少一部分的回收口(24)的第2构件(22)。

本发明为申请日2013年03月15日，申请号为“201380029835.3”，发明名称为“液浸构件及曝光装置”的发明专利申请的分案申请。本发明的原申请(201380029835.3)的权利要求范围要求如下申请的优先权：2012年4月10日申请的美国专利暂时申请61/622,235及2013年3月11日申请的美国专利申请第13/793,667号的优先权。

背景技术

本发明是关于液浸构件、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、程序、及记录媒体。

在光刻制造工艺所使用的曝光装置中，已知一种通过液体以曝光用光使基板曝光的液浸曝光装置，例如下述的美国专利第7,864,292号。

发明内容

液浸曝光装置中，例如当液体从既定空间流出、或残留在基板等物体上时，即有可能发生曝光不良的情形。其结果，有可能产生不良元件。

本发明的态样，其目的在提供一种能抑制曝光不良的发生的液浸构件、曝光装置及曝光方法。此外，本发明的态样，其目的在提供一种能抑制不良元件的产生的元件制造方法、程序及记录媒体。

本发明第1态样，提供一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分；以及第2构件，能与该第1构件隔着间隙在该第1构件的下方移动，具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。

本发明第2态样，提供一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分；以及第2构件，能相对该曝光用光的该光路在该第1构件的至少一部分的外侧移动，具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。

本发明第3态样，提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光，其具备第1态样的液浸构件。

本发明第4态样，提供一种元件制造方法，包含：使用第1至3态样中的任一态样的曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的该基板显影的动作。

本发明第5态样，提供一种曝光方法，是通过液体以曝光用光使基板曝光，包含：形成从光学构件的射出面射出的该曝光用光的光路被该液体充满的液浸空间的动作；通过该液浸空间的液体以从该射出面射出的该曝光用光使该基板曝光的动作；以及移动第2构件的动作，该第2构件是与配置在该光学构件周围的至少一部分的第1构件隔着间隙配置在该第1构件下方、具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。

本发明第6态样，提供一种元件制造方法，包含：使用第5态样的曝光方法使基板曝光的动作，以及使曝光后基板显影的动作。

本发明第7态样，提供一种程序，是使电脑实施通过液体以曝光用光使基板曝光的曝光装置的控制，包含：形成从光学构件的射出面射出的该曝光用光的光路被该液体充满的液浸空间的动作；通过该液浸空间的液体以从该射出面射出的该曝光用光使该基板曝光的动作；以及移动第2构件的动作，该第2构件是与配置在该光学构件周围的至少一部分的第1构件隔着间隙配置在该第1构件下方、具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。

本发明第8态样，提供一种电脑可读取的记录媒体，其记录有第7态样的程序。

根据本发明的态样，能抑制曝光不良的发生。此外，根据本发明的态样，能抑制不良元件的产生。

附图说明