[发明专利]腔室压力稳定控制系统及方法、半导体加工设备

权利要求书

1.一种腔室压力稳定控制系统，用于控制腔室内的压力，其特征在于，包括控制器、用于与所述腔室连通的进气管路和出气管路；

所述进气管路包括流量控制单元；所述控制器用于控制所述流量控制单元向所述腔室内通入相应流量的气体；

所述控制器还用于接收所述腔室的门阀的当前状态，并根据预先设置的所述门阀的多种状态以及对应设置的在每种状态下所述流量控制单元向所述腔室内通入相应流量的气体的情况，控制所述流量控制单元向所述腔室内通入相应流量的气体，以稳定所述腔室内的压力。

2.根据权利要求1所述的腔室压力稳定控制系统，其特征在于，所述流量控制单元的数量为多个；

每个所述流量控制单元包括串联设置的开关和限流件；

所述开关用于在所述控制器的控制下导通或关断其所在的管路；

所述限流件用于限定流经其所在管路的气体的流量，其中，所述流量为固定值。

3.根据权利要求2所述的腔室压力稳定控制系统，其特征在于，多个所述流量控制单元并联设置。

4.根据权利要求2所述的腔室压力稳定控制系统，其特征在于，还包括仿真器，

所述仿真器，用于根据预先设置的所述门阀的多种状态以及对应设置的在每种状态下所述流量控制单元的开关的导通或关断情况、所述腔室的预设稳定压力进行软件仿真，获得每个所述流量控制单元的限流件对应流量的所述固定值。

5.根据权利要求1所述的腔室压力稳定控制系统，其特征在于，每个所述门阀的状态包括：打开状态、关闭状态和打开过程中状态。

6.根据权利要求5所述的腔室压力稳定控制系统，其特征在于，所述门阀数量为多个；

所述门阀的多种状态包括：所有所述门阀的所有所述状态的任意组合。

7.根据权利要求1所述的腔室压力稳定控制系统，其特征在于，所述控制器还用于接收所述门阀的当前状态，延迟预设时间后再根据预先设置的所述门阀的多种状态以及对应设置的在每种状态下所述流量控制单元向所述腔室内通入相应气流量的气体的情况，控制所述流量控制单元向所述腔室内通入相应流量的气体，以稳定所述腔室内的压力。

8.一种半导体加工设备，包括传输腔室和腔室压力稳定控制系统其特征在于，所述腔室压力稳定控制系统采用权利要求1-7任意一项所述的腔室压力稳定控制系统，用于稳定控制所述传输腔室内的压力。

9.一种腔室压力稳定控制方法，其特征在于，包括以下步骤：

设置与腔室连通的进气管路和出气管路，所述进气管路包括流量控制单元；所述流量控制单元用于在控制下控制向所述腔室内通入相应流量的气体；

存储预先设置的所述腔室的门阀的多种状态以及对应设置的在每种状态下所述流量控制单元向所述腔室内通入相应流量的气体的情况，在每种所述门阀的状态对应设置的所述流量控制单元向腔室内通入相应流量的情况下可稳定控制所述腔室内的压力；

接收所述腔室的门阀的当前状态，并根据存储的所述腔室的门阀的多种状态以及对应设置的在每种状态下所述流量控制单元向所述腔室内通入相应流量的气体的情况，控制所述流量控制单元向所述腔室内通入相应流量的气体，以稳定所述腔室内的压力。

10.根据权利要求9所述的腔室压力稳定控制方法，其特征在于，所述流量控制单元的数量为多个；

每个所述流量控制单元包括串联设置的开关和限流件；

所述开关用于在控制下导通或关断其所在的管路；

所述限流件用于限定流经其所在管路的气体的流量，其中，所述流量为固定值。

11.根据权利要求10所述的腔室压力稳定控制方法，其特征在于，还包括以下步骤：

根据预先设置的所述门阀的多种状态以及对应设置的在每种状态下所述流量控制单元的开关的导通或关断情况、所述腔室的预设稳定压力采用软件仿真的方式确定每个所述流量控制单元的限流件对应流量的所述固定值。