[发明专利]用于激光加工设备的水冷系统有效
申请号: | 201711020881.3 | 申请日: | 2017-10-27 |
公开(公告)号: | CN108015440B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 陈振国;张浩雷 | 申请(专利权)人: | 三河同飞制冷股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/70 | 分类号: | B23K26/70 |
代理公司: | 北京神州华茂知识产权有限公司 11358 | 代理人: | 吴照幸 |
地址: | 065200 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 激光 加工 设备 水冷 系统 | ||
本发明公开了一种用于激光加工设备的水冷系统,包括:一个水箱,其内盛放有具有第一温度的冷却水,第一温度为用于冷却激光发生器的温度;第一循环回路,其用于使水箱内的冷却水流经激光发生器并与激光发生器换热后再次回流于水箱;第二循环回路,其用于使冷却水流经光学部件并与光学部件换热后再次回流于水箱;制冷回路,其用于为经换热升温后的冷却水进行降温;温度补偿机构,其用于为第二循环回路中的冷却水进行温度补偿,以使冷却水在流经光学部件之前从第一温度升至第二温度,第二温度为用于冷却光学部件的温度。本发明的水冷系统仅使用一个水箱,节省了空间及成本。
技术领域
本发明涉及一种用于激光加工设备的水冷系统。
背景技术
激光加工设备中,主要的发热部件包括两个;一个为激光发生器,另一个为光学部件,为使该两个部件能够正常工作,需要对该两个部件进行冷却。为此,现有技术中出现了一种为该两个部件冷却的水冷系统。由于激光发生器和光学部件所需要的冷却液的温度不同(激光发生器所需要的冷却液的温度为20℃左右,光学部件所需要的冷却液的温度为30℃左右),现有技术中的水冷系统提供了分别用于分别盛放对应于两个部件所需温度的冷却液的两个水箱以分别满足两个部件的冷却要求,然而,两个水箱使得水冷系统所占用空间增大,成本提高。
发明内容
针对现有技术中存在的上述技术问题,本发明的实施例提供了一种用于激光加工设备的水冷系统。
为解决上述技术问题,本发明的实施例采用的技术方案是:
一种用于激光加工设备的水冷系统,用于冷却激光加工设备中的激光发生器和光学部件,所述水冷系统包括:
一个水箱,其内盛放有具有第一温度的冷却水,所述第一温度为用于冷却所述激光发生器的温度;
第一循环回路,其用于使所述水箱内的冷却水流经所述激光发生器并与所述激光发生器换热后再次回流于所述水箱;
第二循环回路,其用于使冷却水流经所述光学部件并与所述光学部件换热后再次回流于所述水箱;
制冷回路,其用于为经换热升温后的冷却水进行降温;
温度补偿机构,其用于为所述第二循环回路中的冷却水进行温度补偿,以使冷却水在流经所述光学部件之前从第一温度升至第二温度,所述第二温度为用于冷却所述光学部件的温度。
优选地,所述第一循环回路和所述第二循环回路均通过水泵直接从所述水箱中吸水。
优选地,所述第一循环回路通过水泵从所述水箱中吸水,所述第一循环回路位于所述激光发生器与所述水泵之间的一段形成有一支路,所述支路与所述第二循环回路连通,由所述水泵吸入所述第一循环回路内的冷却水部分的通过所述支路进入所述第二循环回路。
优选地,所述支路上设置有流量控制阀,以控制所述第一循环回路中的冷却水进入所述第二循环回路中的比例。
优选地,所述温度补偿机构包括加热器,所述加热器用于为所述第二循环回路中的流经光学部件前的冷却水加热,以使冷却水从第一温度升至第二温度。
与现有技术相比,本发明的实施例所提供的用于激光加工设备的水冷系统的有益效果是:。
附图说明
图1为本发明的一个实施例提供的用于激光加工设备的水冷系统的结构示意图。
图2为本发明的另一个实施例提供的用于激光加工设备的水冷系统的结构示意图。
图3为本发明的又一个实施例提供的用于激光加工设备的水冷系统的结构示意图。
图4为本发明的又一个实施例提供的用于激光加工设备的水冷系统中的换热器的结构示意图。
图中:
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