[发明专利]湿法剥离设备及其剥离方法

权利要求书

1.一种湿法剥离设备，用于湿法去除基板上的光刻胶；其特征在于，所述湿法剥离设备包括依次连通设置的入口单元、剥离单元、置换单元、水洗单元、干燥单元和出口单元；其中，所述置换单元提供置换液冲洗所述基板，以置换去除所述基板经所述剥离单元后残留的剥离液。

2.根据权利要求1所述的湿法剥离设备，其特征在于，所述剥离液包括二甲基亚砜和乙醇胺。

3.根据权利要求2所述的湿法剥离设备，其特征在于，所述置换单元包括入口液刀和出口风刀；所述置换液为二甲基亚砜溶液，所述入口液刀连接所述置换液的供给端，所述出口风刀用以去除所述基板经所述入口液刀后残留的置换液。

4.根据权利要求3所述的湿法剥离设备，其特征在于，所述置换单元还包括置换液收集端，所述置换液收集端连通所述供给端，以将经所述出口风刀吹落的置换液返回至所述供给端。

5.根据权利要求3所述的湿法剥离设备，其特征在于，所述置换单元还包括夹设在所述入口液刀和所述出口风刀之间的喷雾喷嘴，所述喷雾喷嘴用以初步去除所述基板经所述入口液刀后残留的置换液。

6.根据权利要求5所述的湿法剥离设备，其特征在于，所述置换单元还包括置换液收集端，所述置换液收集端连通所述供给端，以将经所述喷雾喷嘴吹落的置换液返回至所述供给端。

7.根据权利要求3所述的湿法剥离设备，其特征在于，所述置换液中二甲基亚砜的纯度不低于99％。

8.根据权利要求1-7任一所述的湿法剥离设备，其特征在于，所述湿法剥离设备还包括连通在所述入口单元和所述剥离单元之间的缓冲单元，所述缓冲单元用以抑制所述剥离单元内的剥离液蔓延至所述入口单元。

9.一种湿法剥离光刻胶的方法，其特征在于，所述方法基于如权利要求1-8任一所述的湿法剥离设备，所述方法包括步骤：

S1、将具有光刻胶的基板由所述入口单元传输至所述剥离单元，所述光刻胶在所述剥离单元中剥离液的浸润、膨胀和溶解作用下被去除；

S2、将所述基板由所述剥离单元传输至所述置换单元，所述置换单元中的置换液冲洗去除残留在所述基板上的剥离液；

S3、将经过置换的基板由所述置换单元依次传输至水洗单元、干燥单元进行水洗和干燥，并经出口单元离开所述湿法剥离设备。