[发明专利]金属四合扣反向钉扣装置的下模

说明书

技术领域

本发明属于金属四合扣用具技术领域，尤其涉及一种金属四合扣反向钉扣装置的下模。

背景技术

目前金属四合扣钉扣时已有钉扣技术是母扣在上面，公扣在下面，钉扣行程长。缺陷是钉扣时公扣母扣对位不准,易发生钉扣次品。所以在使用的时候，由于金属四合扣的下模结构的不合理，从而导致了钉扣产品质量不高，次品率较高。

发明内容

本发明的目的在于解决以上所述的技术问题，提供一种可以保证钉扣质量，减少次品率的金属四合扣反向钉扣装置的下模，其技术方案如下：

金属四合扣反向钉扣装置的下模，其特征在于，包括模体，所述的模体的顶部中心处设置有半球形钉扣台，所述的模体的顶部位于半球形钉扣台的四周处设置有两条环形凹槽，所述的两条环形凹槽靠近半球形钉扣台的为定位环形凹槽，所述的两条环形凹槽的另一条为稳定环形凹槽。

优选方式为，所述的定位环形凹槽的宽度为稳定环形凹槽的二分之一。

本发明提供的金属四合扣反向钉扣装置的下模，在使用的时候，半球形钉扣台是提供一个很好的钉扣平台，而定位环形凹槽可以使得在钉扣的时候，上模和下模之间可以进行很好的定位。稳定环形凹槽是为了使得下模具有很好的稳定性能，使得钉扣的时候具有很好的稳定性。

本发明的有益效果是：可以保证钉扣质量，减少次品率。

附图说明

图1为本发明的示意图。

具体实施方式

下面结合图1具体说明实施例：

金属四合扣反向钉扣装置的下模，其特征在于，包括模体1，所述的模体1的顶部中心处设置有半球形钉扣台2，所述的模体1的顶部位于半球形钉扣台2的四周处设置有两条环形凹槽，所述的两条环形凹槽靠近半球形钉扣台的为定位环形凹槽3，所述的两条环形凹槽的另一条为稳定环形凹槽4。

优选方式为，所述的定位环形凹槽的宽度为稳定环形凹槽的二分之一。