[发明专利]高电子迁移率晶体管的热可靠性评估方法有效
申请号: | 201711027420.9 | 申请日: | 2017-10-27 |
公开(公告)号: | CN107783022B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 马晓华;武玫;郝跃;闵丹;王瑜 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26;G06F17/50 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 迁移率 晶体管 可靠性 评估 方法 | ||
1.一种高电子迁移率晶体管HEMT器件热可靠性的评估方法,包括如下步骤:
(1)将被测器件置于探针台上,源极接地,通过半导体参数分析仪对被测器件施加电压,设定栅极静态偏置点VGSQ与源极静态偏置点VDSQ为0V,漏极电压VDS脉冲宽度为500ns,脉冲周期为1ms,漏极电压VDS从0V扫描到10V,通过温度控制器对被测器件外部加温,测量不同外部温度下器件的输出特性,选取漏极电压VDS等于10V下的饱和漏电流Id0作为电学敏感参数,得到饱和漏电流Id0随温度的变化关系,作为校准曲线Ⅰ;
(2)在室温条件下,固定栅极电压VGS为0V,调节漏极电压VDS从0V到10V变化,测量此时器件的输出特性,提取饱和漏电流Id,建立饱和漏电流Id随不同功率的变化关系Ⅱ;
(3)通过对饱和漏电流Id0随外部温度下的变化关系Ⅰ与饱和漏电流Id随功率下变化关系Ⅱ进行对应,步骤(1)中脉冲测试的外部温度数值上与工作时器件沟道的平均温度相同,令两关系式中Id0=Id,得到不同功率下器件的沟道平均温度T0;
(4)将步骤(3)中的任一个功率条件作为仿真时所用的热生成功率,基于被测器件的栅长、栅宽、栅间距、衬底厚度、氮化镓GaN厚度以及各材料的热导率这些参数,在有限元软件ANSYS建立三维有限元热模型,设定初始条件及边界条件,利用软件的热分析功能,通过有限元法求解热平衡方程,计算得到三维有限元热模型各节点的温度,进而推导得到这一功率下的沟道平均温度T;
(5)用仿真得到的沟道平均温度参数T作为检验三维有限元热模型正确性的标准,即将多个功率下在有限元软件ANSYS仿真所得的沟道平均温度T与测试所得到的沟道平均温度T0进行对比:
若在不同功率下仿真所得道平均温度T与测试所得到的沟道平均温度T0均相同,则在有限元软件ANSYS中建立的热仿真模型具有正确性;
若在不同功率下仿真所得道平均温度T与测试所得到的沟道平均温度T0存在差异,则针对热仿真模型进行模型优化,重复步骤(4),使不同功率下仿真所得道平均温度T与测试所得到的沟道平均温度T0均相同;
(6)在有限元软件ANSYS中,针对已验证并优化的三维有限元热模型,利用软件的热分析功能,设定初始条件及边界条件,通过有限元法求解热平衡方程,计算得到三维有限元模型各节点的温度,推导得到器件三维热分布图像、结温,进而计算出峰值热阻。
2.根据权利要求1所述的方法,其中步骤(1)中外部所加温度为25℃,60℃,90℃,120℃,150℃,180℃,200℃这7个温度点。
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