[发明专利]一种偏振泵浦探测装置有效
申请号: | 201711029834.5 | 申请日: | 2017-10-27 |
公开(公告)号: | CN107831120B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 江天;韦可;郑鑫;李汉;武庆雄;郝昊;刘煜;程湘爱;许中杰;沈超;周军虎;陈润泽;杨澜;王义之 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21;G01N21/31 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;蒋维特 |
地址: | 410073 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 偏振 探测 装置 | ||
1.一种偏振泵浦探测装置,其特征在于,包括:激光产生组件(1)、泵浦激光调节组件、探测激光调节组件、第一偏振器(17)、第二偏振器(12)、第二分束器(10)、第三分束器(13)、合束器(18)、第一偏振检测器(14)、第二偏振检测器(22)、滤光器(23)和探测模块(27);
所述激光产生组件(1)用于产生泵浦激光和探测激光;
所述泵浦激光调节组件用于调节所述泵浦激光的参数;
所述探测激光调节组件用于调节所述探测激光的参数,生成具有超连续谱的探测激光;
所述第二分束器(10)用于从所述探测激光中分出一路探测参考激光;
所述第一偏振器(17)用于调整所述泵浦激光的偏振状态;
所述第二偏振器(12)用于调整所述探测激光的偏振状态;
所述第三分束器(13)用于反射所述探测激光,并透射待测样品的反射光;
所述第一偏振检测器(14)用于对经第三分束器(13)透射的所述反射光进行检偏;
所述合束器(18)用于将所述泵浦激光和所述探测激光合束,并反射待测样品的反射光;
所述第二偏振检测器(22)用于对所述待测样品的透射光进行检偏;
所述滤光器(23)用于滤除所述透射光中的泵浦激光;
所述探测模块(27)用于对所述探测参考激光、反射光和透射光进行光谱探测;
所述泵浦激光调节组件、第一偏振器(17)、合束器(18)依次设置在所述泵浦激光的光路中;
所述探测激光调节组件、第二分束器(10)、第二偏振器(12)、第三分束器(13)、合束器(18)依次设置在所述探测激光的光路中。
2.根据权利要求1所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:所述泵浦激光调节组件包括依次设置在光路上的光参量放大器(2)、斩波器(3)和光强调节器(4);
所述光参量放大器(2)用于调节所述泵浦激光的波长;
所述斩波器(3)用于调制泵浦光的脉冲;
所述光强调节器(4)用于调节泵浦激光的光强。
3.根据权利要求2所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:所述泵浦激光调节组件还包括第一分束器(16)、光强探测器(24);
所述第一分束器(16)用于从所述泵浦激光中按比例分出一路泵浦参考激光;
所述光强探测器(24)用于测量所述泵浦参考激光的光强。
4.根据权利要求3所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:所述探测激光调节组件包括依次设置在光路上的延迟器(6)、超连续谱产生器(8);
所述延迟器(6)用于调节探测激光的光程,控制探测激光和泵浦激光的光程差;
所述超连续谱产生器(8)用于将所述探测激光调节为超连续谱激光。
5.根据权利要求4所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:还包括设置在待测样品(21)前方的聚焦系统(20),用于聚集照射到待测样品(21)上的激光。
6.根据权利要求5所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:所述聚焦系统(20)为反射式物镜。
7.根据权利要求6所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:还包括收集组件(15);所述收集组件(15)设置在所述探测模块(27)前端,用于对所述探测参考激光、和/或反射光、和/或透射光进行聚焦。
8.根据权利要求7所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:还包括设置在所述聚焦系统(20)前端的显微光学成像装置(26),所述显微光学成像装置(26)用于对所述待测样品(21)进行显微成像。
9.根据权利要求8所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:所述激光产生组件(1)包括一台激光器和第四分束器(29);所述激光器用于产生激光,所述第四分束器(29)用于将所述激光分为泵浦激光和探测激光。
10.根据权利要求8或9所述的偏振泵浦探测装置,其特征在于:还包括计算机(28),所述计算机(28)分别与所述斩波器(3)、光强调节器(4)、延迟器(6)、探测模块(27)、光强探测器(24)和显微光学成像装置(26)连接;用于对所述斩波器(3)、光强调节器(4)、延迟器(6)进行控制,并接收所述光强探测器(24)、所述探测模块(27)的测量结果以及所述光学成像模块的成像图像。
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