[发明专利]显示装置及其形成方法有效
申请号: | 201711032522.X | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN108022941B | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 吴湲琳;吴昱娴;李冠锋;蔡宗翰 | 申请(专利权)人: | 群创光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L21/683 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 骆希聪 |
地址: | 中国台湾新竹科学工*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 形成 方法 | ||
1.一种显示装置,包括:
一支撑膜;
一可挠性基板,设置于该支撑膜上;
一驱动层,设置于该可挠性基板上;
一导电垫,设置于该驱动层上;以及
一发光二极管,设置于该导电垫上且电性连接于该导电垫,
其中在一剖面图中,该导电垫具有一第一侧面邻近于该驱动层,
该驱动层具有一第二侧面邻近于该可挠性基板,且至少一部分的该第一侧面以及至少一部分的该第二侧面为弯曲的形状;
该支撑膜具有一第一硬度,该可挠性基板具有一第二硬度,且该第一硬度大于或等于该第二硬度。
2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一硬度在铅笔硬度的3B等级与3H等级之间。
3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该支撑膜是由一绝缘材料制成。
4.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该支撑膜和该可挠性基板是由不同的高分子材料制成,且该可挠性基板较该支撑膜耐热。
5.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该支撑膜具有一第一厚度,该发光二极管具有一第二厚度,且该第一厚度大于该第二厚度。
6.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,该可挠性基板具有一第三厚度,且该第三厚度小于该第一厚度。
7.如权利要求5所述的显示装置,更包括:
一支撑胶,设置于该可挠性基板和该支撑膜之间,其中该支撑胶具有一第四厚度,且该第四厚度小于该第一厚度。
8.如权利要求5所述的显示装置,更包括:
一导电元件,设置于该发光二极管与该导电垫之间,
其中该导电垫具有一第五厚度,该导电元件具有一第六厚度,且该第五厚度小于该第六厚度。
9.如权利要求8所述的显示装置,其特征在于,该导电元件包括一异方性导电膜具有多个导电粒子,且该多个导电粒子具有一高宽比在35%至65%的范围内。
10.如权利要求8所述的显示装置,其特征在于,在一剖面图中,该导电元件具有一第三侧面邻接于该导电垫,且至少一部分的该第三侧面为弯曲的形状。
11.如权利要求10所述的显示装置,其特征在于,该第三侧面的弯曲的该部分与该第一侧面的弯曲的该部分为共形。
12.一种显示装置的形成方法,包括:
在一承载基板上形成一可挠性基板;
在该可挠性基板上形成一驱动层;
在该驱动层上形成一导电垫;
实施一接合制程将一发光二极管与该导电垫接合,其中该发光二极管电性连接于该导电垫;
移除该承载基板;以及
将一支撑膜附着至该可挠性基板,
其中在实施该接合制程之后的一剖面图中,该导电垫具有一第一侧面邻近于该驱动层,
该驱动层具有一第二侧面邻近于该可挠性基板,且至少一部分的该第一侧面以及至少一部分的该第二侧面为弯曲的形状,
该支撑膜具有一第一硬度,该可挠性基板具有一第二硬度,且该第一硬度大于或等于该第二硬度。
13.如权利要求12所述的显示装置的形成方法,其特征在于,该第一硬度在铅笔硬度的3B等级与3H等级之间。
14.如权利要求12所述的显示装置的形成方法,其特征在于,该支撑膜具有一第一厚度,该发光二极管具有一第二厚度,且该第一厚度大于该第二厚度。
15.如权利要求14所述的显示装置的形成方法,其特征在于,该可挠性基板具有一第三厚度,且该第三厚度小于该第一厚度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的