[发明专利]一种聚合物电解质膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711032999.8 申请日: 2017-10-30
公开(公告)号: CN107799818A 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 杨昌恩 申请(专利权)人: 杨昌恩
主分类号: H01M10/056 分类号: H01M10/056;H01M10/0525;H01M10/42
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 聚合物 电解 质膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种电解质膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

(1)将低聚醚接枝聚磷腈聚合物溶解在溶剂中,配制成质量百分比浓度为3%-12%的基体材料溶液;

(2)将锂盐和无机填料分散到所述基体材料溶液中,得到分散后溶液,所述分散后溶液中锂盐的质量百分数为10-15%;

(3)将所述分散后溶液浇注于隔膜上流延成膜;以及真空干燥后得到低聚醚接枝聚磷腈基聚合物电解质膜,其中真空干燥的温度为70-100℃。

2.根据权利要求1所述的一种电解质膜的制备方法,其特征在于,所述无机填料的质量份组成如下:二氧化硅3-8份、碳酸锂1.2-3.6份、二氧化钛混0.2-2.8份、金属-氧化钇稳定氧化锆复合材料1.2-6份。

3.根据权利要求2所述的一种电解质膜的制备方法,其特征在于,所述无机填料的质量份组成如下:二氧化硅3.5-7.5份、碳酸锂1.5-3.2份、二氧化钛混0.5-2.5份、金属-氧化钇稳定氧化锆复合材料1.5-5份。

4.根据权利要求3所述的一种电解质膜的制备方法,其特征在于,所述无机填料的质量份组成如下:二氧化硅5份、碳酸锂2.4份、二氧化钛混1.5份、金属-氧化钇稳定氧化锆复合材料3.6份。

5.根据权利要求1所述的一种电解质膜的制备方法,其特征在于:所述无机填料的平均粒径为0.1-0.3μm。

6.根据权利要求1所述的一种电解质膜的制备方法,其特征在于:所述电解质膜的厚度为0.1-0.3mm。

7.根据权利要求1所述的一种电解质膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

(1)将低聚醚接枝聚磷腈聚合物溶解在溶剂中,配制成质量百分比浓度为10%的基体材料溶液;

(2)将锂盐和无机填料分散到所述基体材料溶液中,得到分散后溶液,所述分散后溶液中锂盐的质量百分数为12%;

(3)将所述分散后溶液浇注于隔膜上流延成膜;以及真空干燥后得到低聚醚接枝聚磷腈基聚合物电解质膜,其中真空干燥的温度为85℃。

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