[发明专利]一种可同时去除稻田落粒谷苗及杂草的种植方法

说明书

技术领域

本发明属于水稻种植技术领域，尤其涉及一种可同时去除稻田落粒谷苗及杂草的种植方法。

背景技术

随着我国社会、经济的发展，轻简栽培技术成为水稻种植主要栽培技术，如直播技术因省工、增效受到青睐，近年应用面积逐年增加。父母本混播也可提高杂交水稻种子生产效率、降低种子生产成本，但田中的杂谷（上一茬掉落）苗及杂草的去除成为当今水稻大田及种子生产需要解决的关键问题。

近30年来，化学除草发展为解决我国农田杂草的主要方式，抗除草剂作物也迅速发展。Clearfield系统（抗乙酰乳酸合成酶抑制剂）、Provisia系统（抗乙酰辅酶A羧化酶抑制剂）非转基因水稻及抗草甘膦、抗草铵膦转基因作物被大面积应用，例如抗除草剂水稻Clearfield系统的研制，使得杂交水稻在美国得以迅速推广。美国水稻生产是实行轮休耕作制度；我国却不同，稻田连年都种植水稻，部分地区每年还种两季，所以在我国长期使用乙酰乳酸合成酶抑制剂类型除草剂就需要面临除草剂长残留性的问题。另外，长期只使用一种除草剂可能存在出现“超级杂草”的风险。因此，如何同时解决田间水稻杂株、杂草及除草剂的残留，是本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，克服以上背景技术中提到的不足和缺陷，提供一种可同时去除稻田落粒谷苗及杂草的种植方法，以解决田间水稻杂株、杂草及除草剂残留的问题。

为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为提供一种可同时去除稻田落粒谷苗及杂草的种植方法，包括如下步骤：用具有不同类型除草剂抗性的水稻品种进行轮作，通过喷施当茬水稻所具有抗性的除草剂来去除稻田杂草及上茬落粒谷苗，并解决除草剂残留问题；即如当茬田间种植抗除草剂水稻品种为A，该品种抗除草剂类型为a，上一茬种植的抗除草剂水稻品种为B，该品种抗除草剂类型为b，通过喷施类型为a除草剂，在去除田间相应杂草的同时，除去品种为B的稻田落粒谷苗，下一茬种植具有其他类型除草剂抗性的水稻品种，通过喷施相对应类型的除草剂，以除去相应杂草及A品种的稻田落粒谷苗。

上述的种植方法，优选的，所述水稻的种植方式为直播或插秧。

优选的，所述具有不同类型除草剂抗性的水稻品种通过EMS诱变、杂交转育或转入抗性基因获得。

优选的，所述具有不同类型除草剂抗性的水稻品种若为杂交稻，则其父本和/或母本须具有显性遗传的除草剂抗性。

优选的，所述除草剂的喷施时间为当茬水稻播种时、当茬水稻的三叶期或当茬水稻移栽一周后。

优选的，所述除草剂的抗性类型包括抗乙酰乳酸合成酶抑制剂、抗乙酰辅酶A羧化酶抑制剂、抗草甘膦或抗草铵膦；所述除草剂包括咪唑乙烟酸、精喹禾灵、草甘膦异丙胺盐或草铵膦；所述咪唑乙烟酸的体积浓度为5%，所述精喹禾灵的体积浓度为8.8%，所述草甘膦异丙胺盐的体积浓度为41%，所述草铵膦的体积浓度为18%。

优选的，所述种植方法具体包括以下步骤：

第一茬水稻种植抗乙酰乳酸合成酶抑制剂的杂交稻隆两优华占A，田间手工或机械直播前述隆两优华占A，直播同时或者在水稻3叶期时喷施乙酰乳酸合成酶抑制类型除草剂，以去除稻田中的杂草及落粒谷苗，然后进行封闭管理；

待第一茬水稻收获后，第二茬水稻种植抗乙酰辅酶A羧化酶抑制剂的杂交稻隆两优华占B，将隆两优华占B通过田间手工或机械直播于同一田块，直播同时或者在水稻3叶期时喷施乙酰辅酶A羧化酶抑制类型除草剂，以去除稻田中的杂草及上一茬落粒谷苗，然后进行封闭管理；

往后再重复以上操作步骤进行水稻轮作。

更优选的，所述种植方法具体包括以下步骤：

第一茬水稻种植抗乙酰乳酸合成酶抑制剂的杂交稻隆两优华占A，田间手工或机械直播前述隆两优华占A，直播同时或者在水稻3叶期时喷施乙酰乳酸合成酶抑制类型除草剂，以去除稻田中的杂草及落粒谷苗，然后进行封闭管理；

待第一茬水稻收获后，第二茬水稻种植抗草甘膦的杂交稻Y优1号B，将杂交稻Y优1号B通过田间手工或机械直播于同一田块，直播同时或者在水稻3叶期时喷施草甘膦类型除草剂，以去除稻田中的杂草及上一茬落粒谷苗，然后进行封闭管理；

往后再重复以上操作步骤进行水稻轮作。

更优选的，所述种植方法具体包括以下步骤：

第一茬水稻种植抗乙酰辅酶A羧化酶抑制剂的常规稻华占A，将该常规稻华占A通过田间手工或机械直播，直播同时或者在水稻3叶期时喷施乙酰辅酶A羧化酶抑制类型除草剂，以去除稻田中的杂草及上一茬落粒谷苗，然后进行封闭管理；