[发明专利]一种促进大豆幼苗生长的种植方法

权利要求书

1.一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，在大豆植株生长至15-20cm时，每隔3-5天采用质量分数为镁盐与铁盐混合水溶液对大豆植株进行叶面喷洒，喷洒时间为早上7点，每天上午进行1次50-80min的遮光处理，同时调节温度至26-28℃，调节大豆植株生长环境内的二氧化碳浓度至0.0351-0.0359%；每天下午进行1次40-60min的遮光处理，同时调节温度至28-30℃，调节环境内的二氧化碳浓度至0.0452-0.0463%，所述遮光处理为采用遮光膜对大豆植株进行遮光处理，进行遮光处理后大豆植株的受到的光照强度为正常光照强度的30-35%。

2.如权利要求1所述的一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，所述镁盐与铁盐混合水溶液中镁盐浓度为1.235mol/L，铁盐浓度为0.283mol/L。

3.如权利要求2所述的一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，所述水中铁盐为氯化铁、硫酸铁或硝酸铁中的任一种或多种混合。

4.如权利要求2所述的一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，所述镁盐为氯化镁、硝酸镁或硫酸镁中的任一种或多种混合。

5.如权利要求1所述的一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，所述遮光膜为聚酰亚胺薄膜，所述聚酰亚胺薄膜中含有其质量3.5%的铝粉。

6.如权利要求6所述的一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，所述铝粉粒度为800目。

7.如权利要求1所述的一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，所述正常光照强度为4万lx。

8.如权利要求1所述的一种促进大豆幼苗生长的种植方法，其特征在于，所述每天上午进行的遮光处理，处理时间为上午9点开始；所述每天下午进行的遮光处理，处理时间为下午15点开始。