[发明专利]一种聚酯薄膜

说明书

本发明公开了一种聚酯薄膜，它属于聚酯薄膜制备技术领域。所述的聚酯薄膜的原料组分按重量份数计如下所示：有机紫外线吸收剂10‑15份、光稳定剂3‑8份、抗氧化剂3‑5份、分散剂1‑3份、聚对苯二甲酸乙二醇酯40‑50份、羧酸类改性共聚酯40‑50份。本工艺制备简单，制备过程中添加了有机紫外线吸收剂，使聚酯薄膜具有良好的透光性、卓越的抗紫外线效果，制备过程中涂覆表面涂层，表面涂层中包含水性树脂和聚噻吩，聚噻吩能够使包括有表面涂层的聚酯薄膜具有良好地抗静电性能，水性树脂能够使聚酯薄膜能进行在线拉伸，此种聚酯薄膜能应用与光学级领域，应用范围广。采用高温淋膜技术使制备的聚酯薄膜复合度非常牢固。

技术领域：

本发明涉及一种聚酯薄膜，属于聚酯薄膜制备技术领域。

背景技术：

近几年，对光学用塑料材料的需求越来越大，液晶显示器用面板，滤色片用保护膜，太阳电池用膜等光学用品的研究很盛行。因塑料材料易成型加工、轻便等特点而具有很广泛的用途。光学薄膜根据其不同的用途，通常需要具有高折射率、低比重、成形性、耐热性、耐光性、耐冲击性等性能要求。近几年来，对这些性能的要求更加提高，各种用于光学用途的单体、低聚物和聚合物等被广泛研究。聚酯薄膜由于具有优异的光学性能、良好的机械性能和耐热性能，在近年来得到广泛应用。双向拉伸聚酯薄膜由于相对于其他塑料薄膜具有良好的尺寸稳定性、耐化学性、高透明性及良好的加工性而被大量用于各种光学聚酯薄膜材料的深加工。

现有技术中，通常通过向聚酯中添加抗静电剂和表层涂布抗静电剂这两种方法来实现薄膜的抗静电性能。现有的抗静电薄膜中均通过向聚酯中添加微米级SiO2爽滑粒子来实现薄膜的抗黏连和爽滑效果，但由于微米级SiO2粒径较大，且添加量多，容易使薄膜形成晶点、雾点，薄膜无法应用于光学级领域。

现在常用的抗紫外线薄膜的生产方式是在透明聚酯薄膜基础上涂布抗紫外线涂覆液，此种方法对涂布的精密性、均匀性以及涂布效果均要求较高，且成品率难以控制。且现有的淋复技术以opp薄膜为主，属于低温的材料，比较容易淋复，而聚酯薄膜为高温材料，其淋膜温度较高，所以一直以来聚酯薄膜的淋复是淋复工艺的瓶颈，因此，开发出具有低雾度、良好的透光性、卓越的抗紫外线效果和良好的抗静电效果的聚酯薄膜和高温淋复技术的聚酯薄膜具有重要意义。

发明内容：

针对上述问题，本发明要解决的技术问题是提供一种聚酯薄膜。

本发明的聚酯薄膜的原料组分按重量份数计如下所示：有机紫外线吸收剂10-15份、光稳定剂3-8份、抗氧化剂3-5份、分散剂1-3份、聚对苯二甲酸乙二醇酯40-50份、羧酸类改性共聚酯40-50份。

进一步优选，所述的聚酯薄膜的原料组分按重量份数计如下所示：有机紫外线吸收剂10份、光稳定剂3份、抗氧化剂3份、分散剂1份、聚对苯二甲酸乙二醇酯40份、羧酸类改性共聚酯40份。

本发明的聚酯薄膜的制备方法为：步骤a、制备厚片：将聚酯薄膜的原料组分按重量份数配比好后加入到混料机中混合，经结晶干燥后由螺杆挤出机熔融挤出，到达模头处经过滤器过滤杂质后挤出成厚片；步骤b、纵向拉伸：将步骤a挤出厚片经过冷鼓冷却，由纵拉机进行纵向拉伸，拉伸温度为70～100℃，拉伸速率为900～1100mm/min，拉伸倍率为2～4倍；步骤c、横向拉伸：将步骤b制备的产品经横拉机横向拉伸为半成品，所述横向拉伸的工艺条件为：拉伸温度为75～125℃，拉伸速率为950～1200mm/min，拉伸倍率为3～5倍；步骤d、双面淋膜工艺，将表面涂层的原料先混合均匀，然后将混合物放置在淋膜机内对步骤c制备的半成品进行双面淋膜，控制淋膜机的温度为300-320℃，淋膜厚度为1-2mm，即制得聚酯薄膜。

作为优选，所述的步骤d中的表面涂层的原料包括水性树脂和聚噻吩，所述的水性树脂和聚噻吩的重量比为10∶1～20∶1。