[发明专利]大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机

说明书

本发明旨在提供一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机，包括机架、底盘、电弧源组件、旋转架组件、驱动机构和传动机构；底盘由机架支撑而水平设置，底盘用于与大型罐体的开口端密封对接，形成以大型罐体作为真空镀室外壁的临时镀室，旋转架组件旋转密封地竖立在底盘中央，电弧源组件活动安装在旋转架组件上，电弧源组件的水电气线路由底盘引出炉外，驱动机构通过传动机构与旋转架组件相连，驱动旋转架组件旋转并带动其上的电弧源组件作旋转运动，另驱动机构通过传动机构驱动电弧源组件作升降运动，并在电弧源组件上升到接近大型罐体顶部时，驱使电弧源组件前端像高低板一样绕一支点旋转仰起，与大型罐体的弧形封顶盖相对。

技术领域

本发明涉及一种用于大型罐体内壁镀膜的真空阴极电弧镀膜机，所述大型罐体指一端开口另一端具有外凸的弧形封顶盖，直径1.5米—3.3米x高2.5米—3.8米 的罐体。

技术背景

常用真空阴极电弧镀膜机用于镀硬质耐磨的工模具保护膜、或镀硬质耐划花耐腐蚀的日用品装饰膜，最典型的镀层是氮化钛，它呈金黄色，有较高硬度，有较好 的耐磨耐蚀性能，常被用于工模具保护膜和各种用品的装饰膜。大型的镀膜机要数 镀不锈钢饰板(如长3.2米x宽1.2米)的镀膜机，立式镀室直径2-5米x高2-4米， 又如镀不锈钢长管(如直径40毫米x6米)的镀膜机，卧式镀室直径2米x长7米， 这类型镀膜机都是30--50只电弧靶位，安置在镀室外壁上，向炉内工件发射靶材镀 料等离子体，在工件外表面沉积成膜，或在工件外表面镀料(如Ti)与反应气体(如 N)合成化合物膜(TiN)。这些机型技术比较成熟了，但要求在大型罐体的内壁上，用真空阴极电弧镀TiN膜的镀膜设备，国内外尚未有报导。

发明内容

综合而言，新型镀膜机应具有如下特点：(1)镀膜时，被镀的大型罐体的内腔需 要抽真空；(2)由于需要在罐体内壁上镀膜，镀膜时，电弧源要位于大型罐体内， 连接电弧源的水、电、气都要引入罐体内腔；(3)电弧源的设置方式还要能完成大 型罐体弧形封顶盖的仰角镀膜。这些要求，现有镀膜机都无法实现。

本发明的发明目的是提供一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机。

本发明的发明目的通过如下技术方案实现：一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机，包括机架、底盘、电弧源组件、旋转架组件、驱动机构和传动机构；

所述底盘由所述机架支撑而水平设置，所述底盘用于与所述大型罐体的开口端密封对接，形成以所述大型罐体作为真空镀室外壁的临时镀室，所述旋转架组件旋转 密封地竖立在所述底盘中央，所述电弧源组件活动安装在所述旋转架组件上，其前 端为电弧靶，靶面朝向所述大型罐体内壁，所述电弧源组件的水电气线路由所述底盘引出炉外，所述驱动机构通过所述传动机构与所述旋转架组件相连，驱动所述旋 转架组件旋转并带动其上的所述电弧源组件作旋转运动，另所述驱动机构通过所述 传动机构驱动所述电弧源组件作升降运动，并在所述电弧源组件上升到接近所述大 型罐体顶部时，驱使所述电弧源组件前端像高低板一样绕一支点旋转仰起，与所述 大型罐体的弧形封顶盖相对。

本发明以待镀工件大型罐体为真空镀室外壁，形成临时镀室，电弧源组件安装在镀室内的旋转架组件上，可满足上述对大型罐体镀膜机的要求(1)、(2)。驱动机构通过传动机构带动旋转架组件旋转从而带动电弧源组件作旋转运动，电弧源组 件的旋转运动，可实现电弧靶对罐体内壁的圆周镀膜，驱动机构通过传动机构驱动 电弧源组件上下升降运动，可实现对罐体内壁不同高度的镀膜，电弧源组件镀膜时 的升降和旋转运动，使镀层均匀，而且可降低电弧源排布密度，同时也构成后续功 能扩展的基础如使本发明能镀不同高度的罐体。而电弧源组件前端仰起的高低板运 动，可实现对罐体弧形封顶盖的镀膜，从而满足要求(3)。