[发明专利]一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构及其使用方法

权利要求书

1.一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构，其特征在于：包括机构(1)，机构(1)内设有腔体，腔体内设有两L型连接轴(2)和修正板(3)，L型连接轴(2)一端贯穿机构(1)底部与气缸(5)连接，另一端与修正板(3)连接，修正板(3)的下方设有坩埚(4)；

机构(1)通过转轴安装有行星架(6)，行星架(6)与镀锅(7)连接；所述镀锅(7)在镀锅旋转轨道(9)内进行滑动；

镀锅旋转轨道(9)上连接有四个升降轴(8)；

镀锅旋转轨道(9)的下方设有烘烤灯(11)；

机构(1)的侧壁安装用于固定镀锅旋转轨道(9)的固定架(10)。

2.根据权利要求1所述的一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构，其特征在于：所述修正板(3)位于坩埚(4)与镀锅(7)间。

3.根据权利要求1所述的一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构，其特征在于：所述腔体上设有腔门(13)，腔门(13)一侧安装有两门扣体(12)，腔门(13)通过门扣体(12)与机构(1)连接；腔门(13)另一侧设有门把手(17)，门把手(17)与机构(1)上的门把手固定卡(16)相配合。

4.根据权利要求3所述的一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构，其特征在于：所述腔门(13)上自上而下分别设有上观察窗(14)和下观察窗(15)。

5.根据权利要求1所述的一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构，其特征在于：所述镀锅(7)可绕行星架(6)进行旋转。

6.一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在腔体内部的L型连接轴上安装两片叶形的修正板；

S2、在腔体顶部加装四根带有螺纹的升降轴改变镀锅旋转轨道的高度，进而改变镀锅在轨道上的高度；

S3、打开腔门将镀锅安装在行星架上；

S4、在坩埚内加金属源；

S5、关闭腔门；

S6、高真空抽到6.0e-4pa时，开启烘烤灯，行星架旋转，带动镀锅在镀锅旋转轨道内运动；

S7、至高真空抽到4.0e-4pa时，开启10KV高压，对坩埚内的金属源蒸发；

S8、20mi n的镀膜时间结束后，关闭蒸发电源；

S9、待腔体内温度降到100℃开启充气阀，待真空室内压力与大气压力平衡后，打开真空室取出硅片；

S10、用膜厚仪测试硅片表面的金属层厚度。

7.根据权利要求6所述的一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构的使用方法，其特征在于：所述烘烤灯的烘烤温度为150℃，烘烤时间为10mi n。