[发明专利]一种在绝缘基材上直接电镀的方法在审

专利信息
申请号: 201711047533.5 申请日: 2017-10-31
公开(公告)号: CN107723764A 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 李玖娟;王翀;朱凯;陈苑明;王守绪;何为;洪延;周国云;张怀武 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: C25D5/54 分类号: C25D5/54;C25D5/56
代理公司: 电子科技大学专利中心51203 代理人: 吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 绝缘 基材 直接 电镀 方法
【权利要求书】:

1.一种在绝缘基材上直接电镀的方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、在绝缘基材表面生长有机导电聚合物膜;

步骤2、金属微粒活化有机导电聚合物膜:

2.1将金属微粒和表面活性剂加入去离子水、乙醇、丙酮、丁酮、氯仿、四氯化碳中的一种或几种形成的溶剂中,混合均匀,得到的混合液中金属微粒的浓度为1~30g/L,表面活性剂的浓度为50~300g/L;

2.2将步骤2.1配制的混合液通过丝网印刷、喷墨打印或者浸泡的方法负载于步骤1形成的有机导电聚合物膜上,干燥;

步骤3、在步骤2处理后得到的基材表面进行电镀。

2.根据权利要求1所述的在绝缘基材上直接电镀的方法,其特征在于,步骤1所述绝缘基材为玻璃纤维增强环氧树脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料、聚碳酸酯塑料、聚酰亚胺树脂塑料、聚对苯二甲酸类塑料、聚四氟乙烯塑料、木质基材或陶瓷基材中的一种。

3.根据权利要求1所述的在绝缘基材上直接电镀的方法,其特征在于,步骤1所述绝缘基材包括孔径为50~500μm的微孔。

4.根据权利要求1所述的在绝缘基材上直接电镀的方法,其特征在于,步骤2所述金属微粒为铜、镍、银、金、钯、铟或钽金属单质中的一种或多种,粒径为1nm~300nm。

5.根据权利要求1所述的在绝缘基材上直接电镀的方法,其特征在于,步骤2.1中所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、十二烷基三甲基氯化铵、十六烷基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵、十六烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、聚乙烯、聚乙二醇、三乙醇胺中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的在绝缘基材上直接电镀的方法,其特征在于,步骤3所述在步骤2处理后的基材表面电镀为电镀铜、电镀镍、电镀锡、电镀银或电镀钴中的一种或多种形成的合金电镀。

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