[发明专利]分子筛SCM-14、其合成方法及其用途

权利要求书

1.一种分子筛SCM-14，其特征在于，

所述分子筛焙烧后的形式中具有如式“SiO₂·1/nGeO₂”所示的示意性化学组成，其中硅锗摩尔比n≤30；或者所述分子筛合成态的形式中具有如式“kF·mQ·SiO₂·1/nGeO₂·pH₂O”所示的示意性化学组成，其中硅锗摩尔比n≤30，0.005≤k≤0.8，以及Q为有机模板剂，0.005≤m≤1.0，且0.005≤p≤0.5；

所述分子筛在其合成态或者其焙烧后的形式中具有基本上如下表A-1或表A-2所示的X-射线衍射图谱，

表A-1

(a)＝±0.3°，(b)随2θ变化，

表A-2

(a)＝±0.3°。

2.根据权利要求1所述的分子筛SCM-14，其特征在于，所述X-射线衍射图谱还包括基本上如下表B-1或表B-2所示的X-射线衍射峰，

表B-1

(a)＝±0.3°，(b)随2θ变化，

表B-2

(a)＝±0.3°，

所述X-射线衍射图谱任选进一步包括基本上如下表所示的X-射线衍射峰，

(a)＝±0.3°。

3.根据权利要求1所述的分子筛SCM-14，其特征在于，所述分子筛焙烧后的形式中具有如式“SiO₂·1/nGeO₂”所示的示意性化学组成，其中硅锗摩尔比0.5≤n≤20。

4.根据权利要求3所述的分子筛SCM-14，其特征在于，≤n≤10。

5.根据权利要求3所述的分子筛SCM-14，其特征在于，1≤n≤5。

6.根据权利要求1所述的分子筛SCM-14，其特征在于，所述分子筛合成态的形式中具有如式“kF·mQ·SiO₂·1/nGeO₂·pH₂O”所示的示意性化学组成，其中，

0.5≤n≤20；

0.01≤k≤0.6；

0.01≤m≤0.6；所述有机模板剂选自4-吡咯烷基吡啶、或者结构式(A-1)、结构式(A-2)或结构式(A-3)所示的季铵形式，

在各式中，R₁和R₂各自独立地为H或者C_1-8烷基，X-各自独立为卤素离子和氢氧根离子(OH^-)；

0.01≤p≤0.4。

7.根据权利要求6所述的分子筛SCM-14，其特征在于，1≤n≤10，0.01≤k≤0.4，0.01≤m≤0.6，和0.01≤p≤0.3。

8.根据权利要求6所述的分子筛SCM-14，其特征在于，1≤n≤5，0.02≤k≤0.2，0.04≤m≤0.1，和0.02≤p≤0.2。

9.根据权利要求6所述的分子筛SCM-14，其特征在于，在各式中，R₁和R₂各自独立地为C_1-2烷基，X^-各自独立为氢氧根离子(OH^-)。

10.根据权利要求1所述的分子筛SCM-14，其特征在于，所述有机模板剂选自4-吡咯烷基吡啶。

11.根据权利要求1所述的分子筛SCM-14，其特征在于，所述分子筛中不超过10％的Ge原子被至少一种非硅和锗的元素的原子取代。

12.根据权利要求11所述的分子筛SCM-14，其特征在于，所述非硅和锗的元素选自由硼、铝、锡、锆和钛组成的组中的至少一种。