[发明专利]静电夹盘及其制造方法在审
申请号: | 201711062566.7 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN107833850A | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | S·撒奇;D·卢博米尔斯基;J·Y·孙;K·马赫拉切夫 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 杨学春,侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 及其 制造 方法 | ||
1.一种静电夹盘,所述静电夹盘包含:
导热基座;
数个加热元件,所述数个加热元件在所述导热基座中,其中所述数个加热元件包含数个主要加热元件及数个辅助加热元件,其中所述数个辅助加热元件的功率低于所述数个主要加热元件;
金属层,所述金属层覆盖所述导热基座的至少一部分;以及
抗等离子体介电层,所述抗等离子体介电层覆盖所述金属层。
2.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述数个辅助加热元件比所述数个主要加热元件更靠近所述导热基座的上表面。
3.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述抗等离子体介电层选自由Y2O3、Y4Al2O9、Y3Al5O12、YAlO3、Y2O3稳定的ZrO2、Y2O3-ZrO2固溶体、以及包含Y4Al2O9及Y2O3-ZrO2的固溶体的陶瓷化合物组成的群组。
4.如权利要求3所述的静电夹盘,其中所述抗等离子体介电层掺杂有ZrO2、Al2O3、SiO2、B2O3、Er2O3、Nd2O3、Nb2O5、CeO2、Sm2O3以及Yb2O3中的一或更多者。
5.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述金属层使所述数个加热元件免受射频耦合,且所述金属层用作所述静电夹盘的电极。
6.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述数个辅助加热元件被安置在形成于所述导热基座的上表面中的数个凹槽中,且被包裹在介电材料中,所述介电材料填充所述数个凹槽。
7.如权利要求6所述的静电夹盘,其中所述介电材料选自由Al2O3、AlN、TiO、SiC、Y2O3以及MgO组成的群组。
8.如权利要求6所述的静电夹盘,其中所述金属层覆盖所述介电材料。
9.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述金属层覆盖所述导热基座的上表面。
10.如权利要求9所述的静电夹盘,其中所述金属层进一步覆盖所述导热基座的侧壁。
11.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述金属层用作夹持电极及射频电极两者。
12.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述金属层具有20-50密耳的厚度。
13.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述抗等离子体介电层具有10-20密耳的厚度。
14.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述抗等离子体介电层具有150微米至1毫米的厚度。
15.如权利要求1所述的静电夹盘,其中在处理期间,所述数个加热元件使所述静电夹盘维持所支撑基板上小于0.5摄氏度的温度变化。
16.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述辅助加热元件选自由钼、铝、钨、以及它们的组合组成的群组。
17.如权利要求1所述的静电夹盘,其中所述导热基座包含金属。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造