[发明专利]光控制膜、显示设备及改善光控制膜的方法

权利要求书

1.一种光控制膜，其特征在于，包括：

基材，具有下表面和上表面；

绕射光栅结构，设置于该基材的该下表面上；以及

低反射率黏着结构，设置于该基材的该上表面上，该低反射率黏着结构包括黏着剂层和吸收材料，该吸收材料在450nm的波长具有一第一穿透率T1、在570nm～600nm的波长范围中具有一第二穿透率T2、在650nm的波长具有一第三穿透率T3，T2<1/2T1，且T2<1/2T3。

2.根据权利要求1所述的光控制膜，其特征在于，该绕射光栅结构包括柱状微结构或粒子微结构。

3.根据权利要求2所述的光控制膜，其特征在于，该绕射光栅结构的柱状微结构或粒子微结构的周期为微米等级，介于0.1μm～50μm之间；且/或该绕射光栅结构具有至少一绕射光栅区，该绕射光栅区包括多个绕射光栅，其中该绕射光栅具有固定的周期和相同的方向。

4.根据权利要求1所述的光控制膜，其特征在于，该黏着剂层由黏着剂组成物形成，该黏着剂组成物包括主剂、架桥剂、和硅烷偶合剂。

5.根据权利要求第1所述的光控制膜，其特征在于，该吸收材料以0.1％～5.0％的重量百分比掺入该黏着剂层内。

6.根据权利要求1所述的光控制膜，其特征在于，该吸收材料以一厚度范围形成附着于该黏着剂层的吸收层，其中该吸收层形成于该黏着剂层之上或该黏着剂层之下。

7.根据权利要求6所述的光控制膜，其特征在于，该厚度范围为0.1μm～25.0μm。

8.根据权利要求1所述的光控制膜，其特征在于，该吸收材料具有如下述式1所示的结构：

[式1]

其中R₁₁～R₁₈分别独立地为氢原子、卤原子、氰基、硝基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的芳香氧基、取代或未取代的芳烷氧基、或取代或未取代的胺基，M为二个氢原子、二个一价金属原子、二价金属原子、三价取代金属原子、或氧化金属原子。

9.根据权利要求1所述的光控制膜，其特征在于，该吸收材料具有如下述式2所示的结构：

[式2]

其中，R₂₁～R₂₄分别独立地为氢原子、卤原子、羟基、可具有取代基的苯基、或碳数1～20的一价饱和烃基，R₂₅～R₂₈分别独立地为氢原子、羟基、巯基、碳数1～5的烷氧基、或三氟甲基，R₂₉～R₃₂分别独立地为其中所含的氢原子可被卤原子、氰基、胺甲酰基、胺磺酰基、羟基、或胺基取代且碳原子之间可插入氧原子或硫原子的碳数1～20的一价饱和烃基。

10.根据权利要求1所述的光控制膜，其特征在于，该基材的材料选自聚酯系树脂、非结晶性聚烯烃系树脂、纤维素系树脂、聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂、环烯烃树脂、和其组合所组成的群组。

11.根据权利要求1所述的光控制膜，其特征在于，更包括：

表面处理结构，设置于该低反射率黏着结构上，该表面处理结构包括保护层和表面处理层，该保护层位于该低反射率黏着结构上，该表面处理层位于该保护层上。

12.根据权利要求11所述的光控制膜，其特征在于，该保护层的材料选自聚酯系树脂、非结晶性聚烯烃系树脂、纤维素系树脂、聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂、环烯烃树脂、和其组合所组成的群组；且/或该表面处理层选自硬涂布层、防眩光层、抗反射层、和抗反射防眩光层所组成的群组。

13.一种显示设备，其特征在于，包括：

权利要求1～12中任一项所述的光控制膜。

14.根据权利要求13所述的显示设备，其特征在于，包括：

显示面板；

上偏光板，设置于该显示面板上，其中该光控制膜设置于该上偏光板上并以该绕射光栅结构面向该上偏光板。

15.一种改善光控制膜的彩纹现象和/或高反射性的方法，其特征在于，该光控制膜包括基材和设置于该基材的下表面上的绕射光栅结构，该方法包括：

在该基材的上表面上形成包括黏着剂层和吸收材料的低反射率黏着结构，该吸收材料在450nm的波长具有一第一穿透率T1、在570nm～600nm的波长范围中具有一第二穿透率T2、在650nm的波长具有一第三穿透率T3，T2<1/2T1，且T2<1/2T3。