[发明专利]一种可屏蔽近红外光的电控调光膜及其制备方法

权利要求书

1.一种可屏蔽近红外光的电控调光膜，其特征在于，该调光膜包括高分子网络、液晶分子和纳米粒子；所述液晶分子分散在所述高分子网络内部；所述高分子网络和所述液晶分子之间分散有纳米粒子，所述纳米粒子在780nm～3000nm近红外波段具有吸收。

2.根据权利要求1所述的电控调光膜，其特征在于，制备调光膜的原料包括液晶材料、聚合单体和纳米粒子，其配比为：

液晶材料：10.0～90.0重量份；

聚合单体：10.0～80.0重量份；

纳米粒子：0.01～20.0重量份。

3.根据权利要求2所述的电控调光膜，其特征在于，所述聚合单体由非液晶性聚合单体组成，或者由液晶性聚合单体和液晶性可聚合单体共同组成。

4.根据权利要求3所述的电控调光膜，其特征在于，所述高分子网络由液晶性可聚合单体和非液晶性可聚合单体共同聚合而成，相应的液晶分子为胆甾相液晶材料；

或者，所述高分子网络由非液晶性可聚合单体聚合而成，相应的液晶分子为向列相液晶材料和/或胆甾相液晶材料。

5.根据权利要求4所述的电控调光膜，其特征在于，所述非液晶性可聚合单体为非液晶性紫外光可聚合单体选自不饱和聚酯、环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、多烯硫醇体系、聚醚丙烯酸酯、水性丙烯酸酯和乙烯基醚类中的一种或多种；

所述液晶性可聚合单体为液晶性紫外光可聚合单体，选自下列物质中的一种或多种：

其中，m、n为4～8的整数，x、y为1或2，E、Q各自独立为丙烯酸酯基、环氧基团、聚氨酯丙烯酸酯基或巯基。

6.根据权利要求1所述的电控调光膜，其特征在于，高分子网络的网孔尺寸大小为1μm～100μm。

7.根据权利要求1所述的电控调光膜，其特征在于，所述纳米粒子包括氧化铟锡、氧化锡锑、钨青铜、具有氧缺陷的硫化铜中的一种或多种。

8.一种制备权利要求1～7任一所述电控调光膜的方法，包括以下步骤：

1)将液晶材料、可聚合单体、引发剂混合以得到均匀的混合物，其中所述可聚合单体由非液晶性紫外光可聚合单体组成；

2)将含有纳米粒子的分散液加至1)中的混合物中，混合均匀后除去溶剂；

3)将2)得到的混合溶液转移至两片导电薄膜之间，并使溶液中的可聚合单体聚合完全，得到可屏蔽近红外光的电控调光膜。

9.一种制备权利要求1～7任一所述电控调光膜的制备方法，包括以下步骤：

1)将液晶材料、可聚合单体、引发剂、间隔粒子混合以得到均匀的混合物，其中所述可聚合单体由液晶性紫外光可聚合单体和非液晶性紫外光可聚合单体共同组成；

2)将含有纳米粒子的分散液加至1)中的混合物中，混合均匀后除去溶剂；

3)将2)中的混合溶液转移至两片导电薄膜之间，并使溶液中的非液晶性紫外光可聚合单体和的液晶性紫外光可聚合单体发生不完全聚合反应；

4)对薄膜施加电场的同时使剩余的可聚合单体聚合完全，得到可屏蔽近红外光的电控调光膜。