[发明专利]一种木板抛光机在审
申请号: | 201711069760.8 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN107584377A | 公开(公告)日: | 2018-01-16 |
发明(设计)人: | 吴丹 | 申请(专利权)人: | 湖州南浔小凌木制品加工厂 |
主分类号: | B24B21/04 | 分类号: | B24B21/04;B24B21/18;B24B41/00;B24B55/08 |
代理公司: | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司11385 | 代理人: | 董芙蓉 |
地址: | 313000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 木板 抛光机 | ||
技术领域
本发明属于木制品加工领域,尤其涉及一种木板抛光机。
背景技术
由于木板抛光大部分是人工抛光,费时费力,所以木板抛光机也随后使用广泛起来。现有的木板抛光机对木板加工抛光时,由于木板厚度、平整度、抛光转速的的影响,抛光的效果不好,而且抛光机工作时产生大量木屑和粉尘,飞散在车间内,对工作环境造成比较大的污染,同时也会影响工人的身体健康。
发明内容
本发明旨在针对背景中存在的不足,而提供的一种木板抛光机。
本发明的一种木板抛光机,包括箱体、传送辊、进料口、出料口和抛光装置,其箱体为长方体,其一端设有横向的进料口、另一端设有出料口,抛光装置是由前抛光辊组和后抛光辊组、前抛光辊组设有第一抛光砂带;后抛光辊组设有第二抛光砂带,进料口至出料口之间的箱体内设有上下对称的平行设置的传送辊、前抛光辊组、传送辊、后抛光辊组、清洁刷和传送辊,其中对称上部的各辊轮在箱体外侧通过第一电机驱动;对称下部的各辊轮在箱体外侧通过第二电机驱动。
作为本发明的优选,所述的其中对称上部的各辊轮的轮轴的两侧箱体上均设有纵向的开口槽,且在箱体外各辊轮的延伸部均安装在水平横板上,水平横板与箱体的上部之间设有两个以上的调节螺杆。
作为本发明的优选,所述的箱体安装在支架上,箱体底部设有出料口,出料口设有接料箱。
作为本发明的优选,所述的第一抛光砂带粗糙度大于第二抛光砂带的粗糙度。
作为本发明的优选,调节螺杆上均设有刻度标识。
作为本发明的优选,所述的前抛光辊组与同侧的传送辊转动方向相反;后抛光辊组与同侧的传送辊转动方向相反。
本发明的一种木板抛光机,设计合理、结构简单、抛光的效果好、抛光机工作时在箱体内完成,避免大量的木屑和粉尘飞扬在车间内,保证了对工作环境相对的清洁、有利于工人的身体健康,能够针对被抛光木板的厚度调节上下抛光转动轮的间距,能够对不同厚度的木板进行加工、且保证加工效果,灵活性强、使用范围广。
附图说明
图 1为本发明纵向剖面结构示意图;
图 2 为本实用的侧视图。
具体实施方式
下面将结合附图1和附图2对本发明的一种木板抛光机,作进一步说明。
实施例1
本发明的一种木板抛光机,包括箱体1、传送辊2、进料口3、出料口4和抛光装置,其箱体1为长方体,其一端设有横向的进料口3、另一端设有出料口4,抛光装置是由前抛光辊组5和后抛光辊组6、前抛光辊组5设有第一抛光砂带7;后抛光辊组6设有第二抛光砂带8,进料口3至出料口4之间的箱体1内设有上下对称的平行设置的传送辊2、前抛光辊组5、传送辊2、后抛光辊组6、清洁刷9和传送辊2,其中对称上部的各辊轮在箱体1外侧通过第一电机10驱动;对称下部的各辊轮在箱体1外侧通过第二电机11驱动。
实施例2
本发明的一种木板抛光机,包括箱体1、传送辊2、进料口3、出料口4和抛光装置,其箱体1为长方体,其一端设有横向的进料口3、另一端设有出料口4,抛光装置是由前抛光辊组5和后抛光辊组6、前抛光辊组5设有第一抛光砂带7;后抛光辊组6设有第二抛光砂带8,进料口3至出料口4之间的箱体1内设有上下对称的平行设置的传送辊2、前抛光辊组5、传送辊2、后抛光辊组6、清洁刷9和传送辊2,其中对称上部的各辊轮在箱体1外侧通过第一电机10驱动;对称下部的各辊轮在箱体1外侧通过第二电机11驱动。其中对称上部的各辊轮的轮轴的两侧箱体1上均设有纵向的开口槽12,且在箱体1外各辊轮的延伸部均安装在水平横板13上,水平横板13与箱体1的上部之间设有两个以上的调节螺杆14。箱体1安装在支架15上,箱体底部设有出料口16,出料口16设有接料箱17。第一抛光砂带7粗糙度大于第二抛光砂带8的粗糙度。调节螺杆14上均设有刻度标识18,用于针对不同厚度的木板调节上下部之间的距离。保证整个垂向移动的部分始终保持水平状态。前抛光辊组5与同侧的传送辊2转动方向相反;后抛光辊组6与同侧的传送辊2转动方向相反,木板向后移动时第一抛光砂带7和第二抛光砂带8对木板进行抛光。
由技术常识可知,本发明可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此,上述公开的实施方案,就各方面而言,都只是举例说明,并不是仅有的。所有在本发明范围内或在等同于本发明的范围内的改变均被本发明包含。
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