[发明专利]激光沉积系统

权利要求书

1.一种激光沉积系统，其特征在于，包括激光源、一驱动机构、一第一反射镜、至少两个第二反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；

所述第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内，所述至少两个第一固定平台分别与所述基片的预设区域相对，所述真空室设置有通光部，所述第二反射镜与所述第一反射镜平行，所述激光源与所述第一反射镜的出光方向呈预设夹角；

所述驱动机构与所述第一反射镜连接，以驱动所述第一反射镜沿着所述激光源的出光方向移动，所述第一反射镜用于将所述激光源发出的光反射至所述至少两个第二反射镜中的一个第二反射镜，进而使得所述第二反射镜将第一反射镜反射的激光通过所述通光部反射至对应的所述第一固定平台；

所述控制组件与所述激光源以及所述一驱动机构电连接；

还包括用于提供惰性气体的储气结构以及用于抽出惰性气体的真空泵；所述真空室的侧壁上开设进气孔以及出气孔，所述储气结构通过所述进气孔与所述真空室连通，所述真空泵通过所述出气孔与所述真空室连通。

2.还包括气压传感器，所述气压传感器、所述储气结构以及所述真空泵分别与所述控制组件电连接。

3.根据权利要求1所述的激光沉积系统，其特征在于，所述基片上与所述第一固定平台相对的一面贴有掩模。

4.根据权利要求2所述的激光沉积系统，其特征在于，所述掩模上设置有多个呈矩阵分布的沉积孔。

5.根据权利要求1所述的激光沉积系统，其特征在于，所述基片的远离所述第一固定平台的一面设置有加热组件。

6.根据权利要求3所述的激光沉积系统，其特征在于，所述第一固定平台内部设置有加热组件，所述加热组件包括多个呈矩形阵列分布的加热元件，该多个加热元件分别与该多个沉积孔相对。

7.根据权利要求1所述的激光沉积系统，其特征在于，所述真空室的壁上设置有至少两个通孔，所述通光部包括覆盖在所述至少两个通孔处的至少两个石英玻璃。

8.根据权利要求1所述的激光沉积系统，其特征在于，还包括一第二固定平台，所述至少两个第一固定平台固定设置于所述第二固定平台上。