[发明专利]主动开关阵列基板及其制造方法和液晶面板在审

专利信息
申请号: 201711071436.X 申请日: 2017-11-03
公开(公告)号: CN107608124A 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 黄北洲 申请(专利权)人: 惠科股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1339
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 代理人: 亓赢
地址: 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 主动 开关 阵列 及其 制造 方法 液晶面板
【权利要求书】:

1.一种主动开关阵列基板,其特征在于,包括:

一第一基底;

一第一绝缘层,设置在所述第一基底上;

多个主动开关,设置在所述第一绝缘层上;

一第一平坦层,设置在所述第一绝缘层上,并覆盖该些主动开关;

一彩色滤光层,设置在所述第一平坦层上,并包括多个平行配置的第一、第二及第三光阻层;

多个虚设凸块,其材料相同于该些第三光阻层的材料,并形成于该些第一或第二光阻层上;以及

一画素电极层,设置在所述彩色滤光层上,并覆盖该些虚设凸块。

2.如权利要求1所述的主动开关阵列基板,其特征在于,所述虚设凸块的材料为红色光阻、蓝色光阻及绿色光阻其中之一。

3.如权利要求1所述的主动开关阵列基板,其特征在于,所述虚设凸块的厚度为0.5~0.8um。

4.一种主动开关阵列的制造方法,其特征在于,包括:

提供一第一基底;

形成一第一绝缘层于所述第一基底上;

形成多个主动开关于所述第一绝缘层上;

形成一第一平坦层于所述第一绝缘层上,并覆盖该些主动开关;

依序形成多个平行配置的第一及第二光阻层;

同时形成多个第三光阻层及多个虚设凸块,其中该些第三光阻层和第一及第二光阻层都平行配置以完成一彩色滤光层,且该些虚设凸块的材料相同于该些第三光阻层的材料并位于该些第一或第二光阻层上;以及

形成一画素电极层于所述彩色滤光层上,并覆盖该些虚设凸块。

5.如权利要求4所述的主动开关阵列基板的制造方法,其特征在于,所述同时形成多个第三光阻层及多个虚设凸块的步骤包括:

在所述第一平坦层上形成一光阻材料层;

在所述光阻材料层上设置一光罩,所述光罩具有一透光区、一非透光区以及一半透光区;以及

进行一曝光制造以及一显影制造,而形成该些第三光阻层及该些虚设凸块。

6.如权利要求5所述的主动开关阵列基板的制造方法,其特征在于,所述光罩为灰阶光罩或半色调光罩。

7.一种液晶面板,其特征在于,包括:

一主动开关阵列基板,包括:

一第一基底;

一第一绝缘层,设置在所述第一基底上;

多个主动开关,设置在所述第一绝缘层上;

一第一平坦层,设置在所述第一绝缘层上,并覆盖该些主动开关;

一彩色滤光层,设置在所述第一平坦层上,并包括多个平行配置的第一、第二及第三光阻层;

多个虚设凸块,其材料相同于该些第三光阻层的材料,并形成于该些第一或第二光阻层上;以及

一画素电极层,设置在所述彩色滤光层上,并覆盖该些虚设凸块;

一对向基板,其与所述主动开关阵列基板对向设置,并包括:

一第二基底;

一铟锡氧化电极层,设置在所述第二基底上;

一黑矩阵层,设置在所述铟锡氧化电极层上;以及

多个主要及次要光间隔物,都设置在所述黑矩阵层上,其中该些主要光间隔物分别对应该些虚设凸块并接触所述画素电极层,该些次要光间隔物未接触所述画素电极层,且该些主要及次要光间隔物位于所述对向基板及所述主动开关阵列基板之间,用以定义一液晶间隔空间;以及

一液晶层,设置于所述主动开关阵列基板及所述对向基板之间,并填满所述液晶间隔空间。

8.如权利要求7所述的液晶面板,其特征在于,所述虚设凸块的材料为红色光阻、蓝色光阻及绿色光阻其中之一。

9.如权利要求7所述的液晶面板,其特征在于,所述虚设凸块的厚度为0.5~0.8um。

10.如权利要求7所述的液晶面板,其特征在于,所述该些主要及次要光间隔物的尺寸及高度均一化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠科股份有限公司,未经惠科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711071436.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top