[发明专利]激光沉积设备

权利要求书

1.一种激光沉积设备，其特征在于，包括激光源、、第一反射镜、第二反射镜、第一分光镜、第二分光镜、真空室、三个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台、用于沉积复合材料的基片以及三个光通开关；

所述第一固定平台以及所述基片均设置于所述真空室内；

第一固定平台分别与所述基片的预设区域相对，所述真空室设置有通光部，所述激光源与所述第一反射镜的出光方向呈预设夹角，所述第二反射镜、第一分光镜、第二分光镜均与所述第一反射镜相互平行；

所述激光源发出的激光经过所述第一反射镜反射后射入所述第一分光镜，所述第一分光镜的反射光线经过所述通光部射至所述真空室内，所述第一分光镜的分光光线射至所述第二分光镜处，所述第二分光镜的反射光线经过所述通光部射入所述真空室内，所第二分光镜的分光光线经所述第二反射镜反射后通过所述通光部射入所述真空室，所述第二反射镜、第一分光镜、第二分光镜的反射光线分别对应射至一所述第一固定平台处；

所述三个光通开关分别设置于所述第二反射镜、第一分光镜、第二分光镜的反射光线的路径上，并位于所述真空室外；

还包括一控制组件，所述控制组件与所述激光源以及所述光通开关电连接;

还包括气压传感器，所述气压传感器、所述储气结构以及所述真空泵分别与所述控制组件电连接；

还包括一第二固定平台，所述三个第一固定平台固定设置于所述第二固定平台上。

2.根据权利要求1所述的激光沉积设备，其特征在于，所述基片上与所述第一固定平台相对的一面贴有掩模。

3.根据权利要求2所述的激光沉积设备，其特征在于，所述掩模上设置有多个呈矩阵分布的沉积孔。

4.根据权利要求3所述的激光沉积设备，其特征在于，所述基片的远离所述第一固定平台的一面设置有加热组件。

5.根据权利要求4所述的激光沉积设备，其特征在于，所述加热组件包括多个呈矩形阵列分布的加热元件，该多个加热元件分别与该多个沉积孔相对。

6.根据权利要求1所述的激光沉积设备，其特征在于，所述真空室的壁上设置有三个通孔，所述通光部包括覆盖在所述三个通孔处的三个石英玻璃。

7.根据权利要求1所述的激光沉积设备，其特征在于，还包括用于提供惰性气体的储气结构以及用于抽出惰性气体的真空泵；所述真空室的侧壁上开设进气孔以及出气孔，所述储气结构通过所述进气孔与所述真空室连通，所述真空泵通过所述出气孔与所述真空室连通。