[发明专利]一种高冲击韧性人造石英石板材在审
申请号: | 201711079703.8 | 申请日: | 2017-11-06 |
公开(公告)号: | CN107879676A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 陆顺欢 | 申请(专利权)人: | 佛山市欧泊石业有限公司 |
主分类号: | C04B26/32 | 分类号: | C04B26/32;C04B111/34 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 邓义华,廖苑滨 |
地址: | 528500 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 冲击韧性 人造 石英 石板材 | ||
技术领域
本发明涉及建筑装饰技术领域,特别是涉及了一种高冲击韧性人造石英石板材。
背景技术
人造石英石(或金刚/刚石)发源地在西班牙,在2005年进入中国的时候叫赛利石, 当人造石英石被越来越多的消费者认可后,2006年中国开始有人研发人造石英石,在2007 年先后有很多厂家推出了国产的人造石英石。人造石英石作为新型的人造建材,在防潮、防酸、可拼性等方面有着天然石材无可比拟的优点。在天然石材资源日渐枯竭的今日,人造石英石是其最好的替代品。同时,人造石英石可采用废旧玻璃作原料,因而在保护环境的同时 实现了资源再利用,这些优势让人造石英石成为建筑装饰行业的新贵,因此,被广泛应用于酒店、餐厅、银行、医院、展览、实验室等公共建筑和厨房台面、洗脸台、厨卫墙面、餐桌、茶几、窗台、门套等家庭装修领域。
然而,现有技术中的人造石英石也有其固有的缺点,例如冲击韧性不佳,当受到的外部撞击力时,石英石容易出现开裂、变形。
发明内容
为了弥补已有技术的缺陷,本发明提供一种高冲击韧性人造石英石板材。
本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种高冲击韧性人造石英石板材,其由如下重量份的原料制备而成:石英砂15-20份、石英粉15-33份、纳米二氧化硅0.2-0.3份、陶瓷颗粒40-60份、不饱和聚酯树脂8-10份、固化剂1-2份、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷0.2-3份、色粉0.2-0.3份,所述不饱和聚酯树脂其固含量≥70%,黏度为1.2-1.5Pa·s(25℃),酸值为 15-26mgKOH/g。
本发明采用的纳米二氧化硅添加到石英石板材中,可以起到纳米颗粒的作用,可提高石英石板材的韧性。
进一步地,纳米二氧化硅为平均粒径为1-100纳米、二氧化硅含量大于等于98%的二氧化硅微粉
进一步地,所述固化剂为过氧化(2-乙基己酸)叔丁酯、过氧化甲乙酮、过氧化苯甲酸叔丁酯或脂肪多元胺中的一种或两种以上的组合。
本发明具有如下有益效果:
(1)本发明的人造石英石板材具有高抗冲击韧性,解决了人造石英石开裂、变形等问题。
(2)本发明的人造石英石板材不易变形、开裂、起泡、褪色、失去光泽等,具有生产成本低,装饰效果好,不变形的特点。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行详细的说明,实施例仅是本发明的优选实施方式,不是对本发明的限定。
实施例1
一种高冲击韧性人造石英石板材,其由如下重量份的原料制备而成:石英砂18份、石英粉25份、纳米二氧化硅0.2份、陶瓷颗粒50份、不饱和聚酯树脂9份、固化剂2份、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷1.5份、色粉0.2份,所述不饱和聚酯树脂其固含量≥70%,黏度为1.2-1.5Pa·s(25℃),酸值为 15-26mgKOH/g;其中,纳米二氧化硅为平均粒径为55纳米、二氧化硅含量大于等于98%的二氧化硅微粉;所述固化剂为过氧化甲乙酮。
实施例2
一种高冲击韧性人造石英石板材,其由如下重量份的原料制备而成:石英砂15份、石英粉33份、纳米二氧化硅0.2份、陶瓷颗粒40份、不饱和聚酯树脂8份、固化剂1份、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷0.2份、色粉0.2份,所述不饱和聚酯树脂其固含量≥70%,黏度为1.2-1.5Pa·s(25℃),酸值为 15-26mgKOH/g;其中,纳米二氧化硅为平均粒径为2纳米、二氧化硅含量大于等于98%的二氧化硅微粉;所述固化剂为脂肪多元胺。
实施例3
一种高冲击韧性人造石英石板材,其由如下重量份的原料制备而成:石英砂20份、石英粉15份、纳米二氧化硅0.3份、陶瓷颗粒60份、不饱和聚酯树脂10份、固化剂2份、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷3份、色粉0.3份,所述不饱和聚酯树脂其固含量≥70%,黏度为1.2-1.5Pa·s(25℃),酸值为 15-26mgKOH/g;其中,纳米二氧化硅为平均粒径为1-100纳米、二氧化硅含量大于等于98%的二氧化硅微粉;所述固化剂为过氧化甲乙酮。
以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制,但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案,均应落在本发明的保护范围之内。
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