[发明专利]一种反光带及其制备方法在审
| 申请号： | 201711079999.3 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN109768110A | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 刘雪洲;谭凯龙;李硕 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/054 | 分类号： | H01L31/054;H01L31/055;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 唐维虎 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基底薄膜 反光层 光吸收层 反光带 制备 稀土发光材料 第二面 微结构 粘合层 | ||
1.一种反光带，其特征在于，包括：
基底薄膜，所述基底薄膜包括相对的第一面和第二面，所述基底薄膜的第一面上形成有反光层，所述反光层在远离所述基底薄膜的第一面的一面具有微结构，所述基底薄膜的第二面上形成有粘合层；
所述反光层上形成有光吸收层，所述光吸收层包括稀土发光材料。
2.如权利要求1所述的反光带，其特征在于，所述稀土发光材料的质量含量为2％。
3.如权利要求1或2所述的反光带，其特征在于，所述稀土发光材料包括：蓝光稀土发光材料、绿光稀土发光材料和红光稀土发光材料中的一种或多种。
4.如权利要求1所述的反光带，其特征在于，所述基底薄膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯，所述反光层包括聚氨脂材料和亚克力胶中的任一种。
5.如权利要求1所述的反光带，其特征在于，所述反光层的材质包括金属和非金属中任意一个。
6.如权利要求1所述的反光带，其特征在于，所述微结构与所述光吸收层之间形成有金属镀层。
7.一种反光带的制备方法，其特征在于，包括：
提供一基底薄膜，所述基底薄膜包括相对的第一面和第二面；
在所述基底薄膜的第一面上形成反光层，所述反光层远离所述基底薄膜的第一面的一面具有微结构；
在所述反光层上形成光吸收层，所述光吸收层包括稀土发光材料；
所述基底薄膜的第二面上形成粘合层。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述稀土发光材料的质量含量为2％。
9.如权利要求7或8所述的方法，其特征在于，所述稀土发光材料包括：蓝光稀土发光材料、绿光稀土发光材料和红光稀土发光材料中的一种或多种。
10.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述形成所述反光层的工艺，包括：
采用固化工艺在所述基底薄膜的第一面形成反光层。
所述形成所述光吸收层的工艺，包括：
采用涂布工艺在所述反光层上形成光吸收层。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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