[发明专利]可连续测温的双室真空炉在审

专利信息
申请号: 201711082984.2 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN107699683A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 杨野 申请(专利权)人: 大连爱信金属制品有限公司
主分类号: C21D11/00 分类号: C21D11/00;C21D1/62;C21D1/773;C21D9/00
代理公司: 大连格智知识产权代理有限公司21238 代理人: 林青
地址: 116031 辽宁省大*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 连续 测温 真空炉
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种双室真空炉,特别是一种可连续测温的双室真空炉。

背景技术

已有双室真空炉的加热室与冷却室之间通过中间门将两室完全隔离,在加热室完成加热后,打开中间门通过转运车将工件送入到冷却室进行冷却。对双室真空炉实施温度监测的设备是由热电偶以及温度记录仪构成。由于热电偶与炉体外温度记录仪连接,加之热电偶从加热室进入到冷却室会造成中间门无法关闭,因此热电偶不能随工件一起从加热室移至冷却室。

现有双室真空炉实施温度监控存在的问题是:1、如果在加热室对工件进行温度监测,通过插入到工件上的热电偶反馈温度变化至温度记录仪,监控工件在加热室的温度状况。待加热结束后,工件温度降至300℃以下才可以将炉门打开拔出热电偶,温度过高打开炉门,空气进入易点燃炉内碳毡,因此无法实施将工件从加热室送入到冷却室进行快速冷却的操作。在加热室从1000多度降到300度的降温速度比较慢、降温时间长,不能满足热处理工艺要求,通常只用于试验测温。2、如果在冷却室对工件进行温度监测,一是不能在加热室实施温度监测,加热和保温过程是靠人工在炉外监控,测得数据不够准确;二是工件从加热室移至冷却室后,根据热处理要求,工件从1020℃至650℃需要快速冷却,不允许停留,只有工件温度降至600℃左右时,方可打开炉门进行安插热电偶操作,而能否实施此操作是凭借作业者的经验判断进行。由此可见,已有的双室真空炉无法准确的对工件加热及淬火过程进行温度监控,影响加工质量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能在热处理工艺过程中全程监测温度变化、且结构简单、操作方便的可连续测温的双室真空炉。

本发明的技术解决方案是:一种可连续测温的双室真空炉,包括炉体、加热室、冷却室、中间门、转运车、热电偶、温度记录仪、料盘,其特征在于在加热室和冷却室的料盘支撑架体上分别固定安装插座,插座的插孔面朝上,插座的连接导线穿过炉体与炉外温度记录仪连接;料盘侧壁或底面上固定安装有热电偶插头,热电偶插头的导电柱朝下设置,料盘上热电偶插头的安装位置与料盘支撑架体上插座的安装位置相对应,料盘位于料盘支撑架体上,其热电偶插头的导电柱位于插座的插孔内。

插座的插孔面与料盘支撑架体的支撑面处于同一平面上或者低于料盘支撑架体的支撑面。

本发明的特点是:解决了双室真空炉无法对工件加热及淬火过程的连续温度监测问题,安装在料盘上的热电偶插头可随料盘的降落或提升自动完成与设置在加热室和冷却室的料盘支撑架体上的插座连接或断开,热电偶能够随工件从一个室到另一个室的无障碍转运,从而实现了连续准确监测加热及淬火温度,保证热处理的效果,提高了加工工件的质量。其连接方式简单,操作方便,节约了成本。

附图说明

图1是本发明的双室真空炉的结构示意图;

图2是图1的A-A向剖视图;

图3是图2的局部放大图;

图4是本发明热电偶的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步详述:

图1、2所示,本发明提供的可连续测温的双室真空炉,其炉体1内分割成冷却室2和加热室3,两室之间通过可上下移动的中间门4隔离密封,炉体两端设置有密封门5,冷却室炉体壁上设置有冷却气体入口6,室内设置有料盘支撑架体7和转运车8,转运车可以在两室之间移动,并可升降。加热室内设置有碳毡层9,在碳毡层内沿周壁设置有加热器10,加热室内设置有料盘支撑架体11,炉体结构均为现有技术相同,不再赘述。本发明的特殊之处是在加热室和冷却室的料盘支撑架体7、11的两侧分别固定安装有插座12,插座的多少可以根据所需的测温热电偶16设定,插座的插孔面朝上,最好与支撑架体的支撑面处于同一平面上,或者低于支撑架体的支撑面,以方便插头的插入。插座采用耐高温陶瓷制作,具有较深的插孔,与长导电柱的插头相匹配,形成良好的电连接。插座的连接导线穿过炉体与炉外温度记录仪连接,未在图中示出,连接导线用不锈钢保护套保护,防止温度过高损坏。料盘15侧壁上固定安装有热电偶插头13,插头采用耐高温陶瓷制作,热电偶插头的正负导电柱14朝下设置,导电柱的长度相比已有插头的导电柱要长,使其能够与插座的插孔形成良好的配合。热电偶插头安装位置应满足料盘放置在料盘支撑架体上,其热电偶插头的导电柱正好插入到插座的插孔内,见图3、4。

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