[发明专利]一种检测晶圆放置状态的方法及系统在审
申请号: | 201711083663.4 | 申请日: | 2017-11-07 |
公开(公告)号: | CN107860416A | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 王文举;张继静 | 申请(专利权)人: | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) |
主分类号: | G01D21/00 | 分类号: | G01D21/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 梁斌 |
地址: | 100000 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 检测 放置 状态 方法 系统 | ||
1.一种检测晶圆放置状态的系统,其特征在于,该系统包括:光源发生器、光源接收器、晶圆以及光波接收透射器,其中,
光源发生器与光源接收器位于晶圆壁的两侧;
光源发生器输出的光源照射到晶圆壁上;
光波接收透射器位于晶圆与光源接收器之间,用于接收光源发生器输出的光源中未被晶圆遮挡的光源,对第一波长光源进行透射,过滤其它波长的光源;
光源接收器接收光波接收透射器透射的第一波长光源,获取第一波长光源的光源强度,判断获取的光源强度是否小于预先设置的第一波长光源阈值;
若获取的光源强度小于预先设置的第一波长光源阈值,确定晶圆放置状态为水平放置,若获取的光源强度不小于预先设置的第一波长光源阈值,确定晶圆放置状态为倾斜放置或未放置晶圆。
2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述光波接收透射器为滤波片,所述滤波片的形状为矩形,矩形的长度小于或等于晶圆直径,矩形的宽度小于或等于晶圆厚度,矩形的宽度方向与晶圆的厚度方向平行。
3.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统还包括:
光波输出透射器,位于晶圆与光源发生器之间,用于接收光源发生器输出的光源,对第一波长光源进行透射后照射到晶圆壁上,过滤其它波长的光源。
4.如权利要求3所述的系统,其特征在于,所述光波输出透射器长度与光波接收透射器长度相同,宽度大于或等于光波接收透射器的宽度,小于晶圆厚度。
5.如权利要求1至4任一项所述的系统,其特征在于,所述系统还包括:
放大器,用于对光波接收透射器透射的第一波长光源进行放大处理后输出至光源接收器。
6.如权利要求5所述的系统,其特征在于,所述系统还包括:
滤波器,用于对光波接收透射器透射的第一波长光源,或放大器输出的光源进行滤波处理后输出至光源接收器。
7.如权利要求1至4任一项所述的系统,其特征在于,所述光源发生器输出的光源中心、光源接收器接收光源的中心、晶圆厚度方向的中心以及光波接收透射器透射光源的中心位于同一直线上。
8.如权利要求1至4任一项所述的系统,其特征在于,所述光源发生器为红外光源发生器,光源接收器为红外光源接收器,光波接收透射器为红外光源滤波片,第一波长光源为红外光源。
9.一种检测晶圆放置状态的方法,其特征在于,该方法包括:
控制输出光源照射到晶圆壁上;
在晶圆壁的对侧,驱动接收所述输出光源中未被晶圆遮挡的光源,对第一波长光源进行透射,过滤其它波长的光源;
获取透射的第一波长光源的光源强度,判断获取的光源强度是否小于预先设置的第一波长光源阈值;
若获取的光源强度小于预先设置的第一波长光源阈值,确定晶圆放置状态为水平放置,若获取的光源强度不小于预先设置的第一波长光源阈值,确定晶圆放置状态为倾斜放置或未放置晶圆。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述若获取的光源强度不小于预先设置的第一波长光源阈值,确定晶圆放置状态为倾斜放置或未放置晶圆包括:
判断获取的光源强度是否小于预先设置的第一波长光源上限阈值,若获取的光源强度小于所述第一波长光源上限阈值,确定晶圆放置状态为倾斜放置,否则,确定未放置晶圆。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所),未经北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711083663.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:作业工时监测装置及组装工站
- 下一篇:一种工业用3D扫描仪