[发明专利]一种抗污抗静电的双面硬化膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于保护膜技术领域，尤其涉及一种抗污抗静电的双面硬化膜及其制备方法。

背景技术

市面上的双面硬化膜主要应用于机器视窗，显示屏等，都没有抗污抗静电效果，在机器上使用时，容易出现静电危害，且市面上的双面硬化膜无抗UV辐照性能，经过UV照射易产生气泡，影响使用效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抗污抗静电的双面硬化膜及其制备方法，本发明中的双面硬化膜抗污抗静电，同时耐UV辐射。

本发明提供一种抗污抗静电的双面硬化膜，包括依次接触的护膜层、抗污硬化层、抗静电层、基材层、UV硬化层、硅胶层和剥离膜；

以质量比例计，所述抗静电层的配方为:

聚噻吩类化合物：水：乙醇＝(1～10)：(3～15:)：(3～20)。

优选的，所述抗静电层的厚度为1～2μm。

优选的，以质量比例计，所述抗污硬化层的配方为：改性丙烯酸树脂：溶剂＝(15～30)：(11～25)；

所述抗污硬化层的厚度为3～15μm。

优选的，所述UV硬化层的材质为丙烯酸树脂；

所述UV硬化层的厚度为3～6μm。

优选的，所述基材层为PET层、PE层、OPP层、BOPET层或BOPP层；

所述基材层的厚度为50～200μm。

优选的，所述护膜层为PET层、PE层、OPP层、BOPET层或BOPP层；

所述护膜层的厚度为25～75μm。

优选的，所述剥离膜的厚度为15～150μm。

优选的，以质量比例计，所述硅胶层的配方为：有机硅：添加剂：溶剂＝(30～40)：(1～10)：(60～65)；

所述硅胶层的厚度为15～50μm。

本发明提供一种抗污抗静电的双面硬化膜的制备方法，包括以下步骤：

A)在基材的一面涂布抗静电溶液，烘干，得到抗静电层；

B)在所述抗静电层上涂布第一UV胶水，固化后覆上保护膜；

C)在基材的另一面涂布第二UV胶水，固化后涂布硅胶，覆剥离膜，得到抗污抗静电的双面硬化膜；

以质量比例计，所述抗静电溶液的配方为:

聚噻吩类化合物：水：乙醇＝(1～10)：(3～15:)：(5～20)。

本发明提供了一种抗污抗静电的双面硬化膜，包括依次接触的护膜层、第一UV硬化层、抗静电层、基材层、第二UV硬化层、硅胶层和剥离膜；以质量比例计，所述抗静电层的配方为:聚噻吩类化合物：水：乙醇＝(1～10)：(3～15:)：(5～20)。本发明中的抗污抗静电双面硬化膜具有优异的抗污和抗静电作用，并且经UV辐照测试后，本申请的双面硬化膜的膜面没有明显的变化，说明其具有良好的抗UV辐照的作用。

本发明还提供了一种抗污抗静电的双面硬化膜的制备方法，本发明中的制备方法简单，有利于大批量生产。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明中抗污抗静电的双面硬化膜的结构示意图，其中，1为护膜层，2为抗污硬化层，3为抗静电层，4为基材层，5为UV硬化层，6为硅胶层，7为剥离膜。

具体实施方式

本发明提供了一种抗污抗静电的双面硬化膜，包括依次接触的护膜层、抗污硬化层、抗静电层、基材层、UV硬化层、硅胶层和剥离膜；

以质量比例计，所述抗静电层的配方为:

聚噻吩类化合物：水：乙醇＝(1～10)：(3～15:)：(5～20)。

在本发明中，所述护膜层优选为PET层、PE层、OPP层、BOPET层或BOPP层；所述护膜层的厚度优选为25～75μm，更优选为35～50μm。

所述抗污硬化层的配方优选为：改性丙烯酸树脂：溶剂＝(15～30)：(11～25)；更优选为(20～25)：(15～20)；所述溶剂优选为乙酸乙酯、丙二酸甲醚醋酸酯和丁酮中的一种或几种。所述抗污硬化层的厚度优选为3～15μm，更优选为5～10μm。