[发明专利]一种晶体硅太阳能电池发射极磷掺杂控制方法有效

专利信息
申请号: 201711086162.1 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN107871660B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 周凡;崔龙辉;焦朋府;韩超;杨进;张文原;刘文超;任欢欢 申请(专利权)人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
主分类号: H01L21/223 分类号: H01L21/223;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 14101 太原市科瑞达专利代理有限公司 代理人: 李富元<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 046000 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶体 太阳能电池 发射极 掺杂 控制 方法
【说明书】:

发明涉及太阳能电池生产领域。一种晶体硅太阳能电池发射极磷掺杂控制方法,按照如下步骤进行,步骤一、第一次低温氧化;步骤二、第一次沉积;步骤三、第二次低温氧化;步骤四、第二次沉积和第一次推进;步骤五、第三次沉积和第二次推进。本发明通过低温氧化‑沉积‑低温氧化提高了峰值浓度,同时又不会造成晶格错位,然后再通过两次沉积和推进钝化电池表面,获得更佳的光电转化效率。

技术领域

本发明涉及太阳能电池生产领域。

背景技术

太阳能电池的制备主要包括清洗制绒-扩散制结-湿法切边-PECVD(等离子气相沉积制减反射膜)-丝网印刷-烧结-分选。扩散制结是制备太阳能电池的关键步骤,它是通过在向半导体晶片内部扩散,改变晶体的导电类型,从而形成P、N结。决定了电池片开路电压、填充因子、短路电流的大小,是影响电池片转换效率的重要因素。

现有技术是太阳能电池使用P型硅,以N2、O2及POCl3为原料,在高温下进行化学反应,并在硅片表面形成一层磷硅玻璃,然后磷原子再向硅中进行扩散,形成N层,最终形成PN结。扩散工艺中,最关键是磷源的沉积和推进两个步骤,决定PN结的结深和方块电阻。

在常规的太阳能电池片的PN结扩散浓度分布曲线上,掺杂曲线总体由两类高斯曲线组成,第一个高斯曲线是磷浓度较高的重掺杂区域n++区,第二个高斯曲线是扩散深度较深但磷掺杂浓度较低的n+区域,在这个磷扩散浓度分布图上,对最终电池片光电转换效率影响较大的是三个参数:n++区的峰值浓度,n++区磷浓度为5*1019/cm³的位置深度,n+区磷浓度为1*1018/cm³的位置深度(结深)。

n++区的峰值浓度决定了和电池片表面银栅线的欧姆接触,如果峰值浓度过低,会造成和银栅线的电阻过大,进而影响太阳能电池片的光电转化效率;若峰值浓度过高,过量磷会造成大量的晶格错位,降低太阳光中的短波吸收,降低太阳能电池片的光电转换效率;因此峰值浓度有一个最合适范围。n+区磷浓度为1*1018/cm³的位置深度是太阳能电池片PN结的结深,在太阳能电池片表面钝化较好的情况下,结深越深,光电转换效率越高。

目前光伏行业内部普遍使用的是氧化——磷沉积——推进的两步工艺,磷源的通入是在磷沉积这步,推进步骤不通入磷源。为了进一步提高电池片的光电转换效率,必须提高结深。而整个太阳能电池片的方阻值是不变的,因此总通入的磷源是不变的。通过提高温度或推进时间提高结深的方法会使表面的磷进入内部,会增加表面的欧姆值,降低光电转化效率。现有工艺峰值浓度和结深不可兼得。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是:如何通过磷扩散获得更佳的光电转化效率。

本发明所采用的技术方案是:一种晶体硅太阳能电池发射极磷掺杂控制方法,按照如下步骤进行

步骤一、第一次低温氧化,保持温度770℃,氮气流量为7.5slm,氧气流量为1200sccm,氧化5min;

步骤二、第一次沉积,控制N2流量为7.5slm,停止氧气流量,以6℃/min的升温速率升温至800℃,保持温度不变,调整氮气流量为7slm,三氯氧磷流量1450sccm,氧气流量800slm,沉积7min;

步骤三、第二次低温氧化,控制氮气流量为7slm,停止三氯氧磷和氧气流量,以8℃/min的降温速率降温至770℃;保持氮气流量7.5slm,氧气流量为1200sccm,氧化5min;

步骤四、第二次沉积和第一次推进,控制氮气流量为7slm,以8℃/min的升温速率升温至800℃,调整氮气流量为7slm,三氯氧磷流量1450sccm,氧气流量800slm,沉积5min,保持氮气流量不变,停止三氯氧磷和氧气流量,以8℃/min的升温速率升温至840℃,保持温度不变,调整氧气流量为2700sccm,推进10min;

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