[发明专利]高像素大靶面大光圈超广角光学系统有效

专利信息
申请号: 201711087685.8 申请日: 2017-11-08
公开(公告)号: CN107728291B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 汪鸿飞;刘振庭;陈波;尹小玲;符致农;刘佳俊;刘洪海 申请(专利权)人: 广东弘景光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/06
代理公司: 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327 代理人: 石仁
地址: 528400 广东省中山市火炬*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 像素 大靶面大 光圈 广角 光学系统
【权利要求书】:

1.高像素大靶面大光圈超广角光学系统,沿光轴从物面到像面依次由第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、以及第六透镜构成;其特征在于,

第一透镜的物面侧为凸面,像面侧为凹面,其光焦度为负;

第二透镜的物面侧为凸面,像面侧为凹面,其光焦度为负;

第三透镜的物面侧为凸面,像面侧为凹面,其光焦度为负;

第四透镜的物面侧为凸面,像面侧为凸面,其光焦度为正;

第五透镜的物面侧为凸面,像面侧为凸面,其光焦度为正;

第六透镜的物面侧为凹面,像面侧为凸面,其光焦度为负;

且本光学系统的光学总长TTL满足:20mm≤TTL≤28mm;

本光学系统的光阑位于第三透镜与第四透镜之间;

该光学系统的各透镜满足如下条件:

(1)-0.64f/f1-0.26;

(2)-0.25f/f2-0.05;

(3)-0.32f/f3-0.18;

(4)0.50f/f41.21;

(5)0.51f/f51.49;

(6)-0.85f/f6-0.38;

(7)Vd2-Vd430;

其中,f1为第一透镜的焦距,f2为第二透镜的焦距,f3为第三透镜的焦距,f4为第四透镜的焦距,f5为第五透镜的焦距,f6为第六透镜的焦距,f为整个光学系统的焦距,Vd2和Vd4分别是第二透镜和第四透镜的材料阿贝常数。

2.根据权利要求1所述的高像素大靶面大光圈超广角光学系统,其特征在于,第五透镜和第六透镜相互胶合形成组合透镜。

3.根据权利要求1所述的高像素大靶面大光圈超广角光学系统,其特征在于,第一透镜的焦距f1、材料折射率Nd1、材料阿贝常数Vd1满足:-11.31mmf1-4.69mm,1.49Nd11.70,50Vd167。

4.根据权利要求1所述的高像素大靶面大光圈超广角光学系统,其特征在于,第二透镜的焦距f2、材料折射率Nd2、材料阿贝常数Vd2满足:-60.04mmf2-11.82mm,1.45Nd21.65,60Vd291。

5.根据权利要求1所述的高像素大靶面大光圈超广角光学系统,其特征在于,第三透镜的焦距f3、材料折射率Nd3、材料阿贝常数Vd3满足:-16.45mmf3-9.28mm,1.55Nd31.85,23Vd345。

6.根据权利要求1所述的高像素大靶面大光圈超广角光学系统,其特征在于,第四透镜的焦距f4、材料折射率Nd4、材料阿贝常数Vd4满足:

2.47mmf46.02mm,1.80Nd41.96,25Vd450。

7.根据权利要求1所述的高像素大靶面大光圈超广角光学系统,其特征在于,第五透镜的焦距f5、材料折射率Nd5、材料阿贝常数Vd5满足:

2.01mmf55.93mm,1.55Nd51.76,45Vd570。

8.根据权利要求1所述的高像素大靶面大光圈超广角光学系统,其特征在于,第六透镜的焦距f6、材料折射率Nd6、材料阿贝常数Vd6满足:-7.89mmf6-3.53mm,1.80Nd62.05,15Vd630。

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