[发明专利]一种含有光提取膜附着力促进层的OLED器件有效
| 申请号： | 201711094272.2 | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN108091770B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 田元生;刘玉龙;卢泓 | 申请（专利权）人： | 江苏壹光科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 卢霞 |
| 地址： | 213300 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 有光 提取 附着力 促进 oled 器件 | ||
1.一种含有光提取膜附着力促进层的OLED器件，其特征在于，包含：
玻璃基板（100）；
制作于玻璃基板上的OLED器件（101），该器件为底发光器件，所发的光通过玻璃基板射入空气；
设在玻璃基板上没有OLED器件的一侧的光提取膜（102）；所述的光提取膜的主要组成为散光颗粒及高分子聚合物；所述的散光颗粒是由与高分子聚合物折射率不同的材料制成，分散在高分子聚合物中；所述的光提取膜的厚度为0.5~5微米；
设在光提取膜（102）和玻璃基板（100）之间的附着力促进层（103）；
所述的附着力促进层的主要组成为金属氧化物；所述的金属氧化物选自氧化锡、氧化铟、氧化铟锡ITO、氧化铝、氧化锌或氧化锆、氧化镁中的一种或至少两种的组合。
2.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于：所述的附着力促进层的主要组成为氧化铟锡ITO，ITO中铟与锡元素的重量比例在0/1 和1/0 之间；所述的附着力促进层的厚度范围在0.1-200纳米之间。
3.根据权利要求2所述的OLED器件，其特征在于：所述的附着力促进层为氧化铟锡ITO薄膜，所述的ITO中铟与锡元素的重量比例为9：1，厚度在1nm。
4.根据权利要求2所述的OLED器件，其特征在于：所述的附着力促进层为氧化铟锡ITO薄膜，所述的ITO中铟与锡元素的重量比例为1：9，厚度在150nm。
5.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于：所述的附着力促进层通过溅镀、蒸镀到玻璃基板而形成。
6.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于：所述的散光颗粒的材料选自氧化钛、氧化锌、氧化锆、氟化镁、硫酸钡、氧化硅、氧化镁、硫化锌、氧化铝、氧化硅、氮化硅中的一种或至少两种的组合；所述的散光颗粒的粒径范围在5到1000纳米之间。
7.根据权利要求6所述的OLED器件，其特征在于：所述的散光颗粒的粒径范围在30到100纳米之间。
8.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于：所述的高分子聚合物选自聚丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯、异氰酸酯中的一种或至少两种的组合。
9.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于：在光提取膜上还设有硬化膜。
10.如权利要求1-9任意一项所述的含有光提取膜附着力促进层的OLED器件的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：
1）.在玻璃基板上蒸镀、溅镀形成附着力促进层；
2）.在玻璃基板非发光面蒸镀OLED发光器件；
3）.在附着力促进层上旋涂或喷涂成膜液、经过至少一次加温或UV固化形成光提取膜。
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