[发明专利]一种渐变防眩光盖板及其制作方法、电子设备

权利要求书

1.一种渐变防眩光盖板制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板的至少一个表面制作渐变密度的凹槽，相邻凹槽之间的间距小于5微米，所述渐变密度为凹槽的密度沿所述凹槽所在表面的至少一个方向渐变，以实现光的渐变，所述渐变密度凹槽的凹槽密度为平行于渐变方向1mm长度内凹槽个数为10个-250个，包括端点值；

脱模；

在所述凹槽的表面制作凹凸不平的防眩光结构。

2.根据权利要求1所述的渐变防眩光盖板制作方法，其特征在于，所述在所述基板的至少一个表面制作渐变密度的凹槽，具体包括：

在所述基板待形成凹槽的表面涂光刻胶；

曝光所述光刻胶；

对所述光刻胶显影，得到具有渐变密度开口的光刻胶图案；

对所述光刻胶开口暴露出的基板进行蚀刻，形成渐变密度的凹槽。

3.根据权利要求2所述的渐变防眩光盖板制作方法，其特征在于，所述对所述光刻胶开口暴露出的基板进行蚀刻，形成渐变密度的凹槽，具体包括：

采用含氟溶液湿法蚀刻所述光刻胶开口暴露出的基板，蚀刻深度大于或等于0.2微米，形成渐变密度的凹槽。

4.根据权利要求2所述的渐变防眩光盖板制作方法，其特征在于，所述脱模具体包括：

使用强碱液体将所述基板上的光刻胶去除。

5.根据权利要求1所述的渐变防眩光盖板制作方法，其特征在于，所述在所述凹槽的表面制作凹凸不平的防眩光效果，具体采用工艺包括：

喷涂方式、或蚀刻方式、或喷砂后蚀刻方式。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的渐变防眩光盖板制作方法，其特征在于，所述在所述凹槽的表面制作凹凸不平的防眩光结构之后还包括：

对所述基板进行钢化处理。

7.一种渐变防眩光盖板，其特征在于，采用权利要求1-6任意一项所述的渐变防眩光盖板制作方法制作形成，所述渐变防眩光盖板包括：

基板，所述基板包括相对设置的第一表面和第二表面；

位于所述第一表面和/或第二表面的渐变密度凹槽，相邻凹槽之间的间距小于5微米，所述渐变密度为凹槽的密度沿所述凹槽所在表面的至少一个方向渐变，以实现光的渐变，所述渐变密度凹槽的凹槽密度为平行于渐变方向1mm长度内凹槽个数为10个-250个，包括端点值；

所述凹槽上具有凹凸不平的防眩光结构。

8.根据权利要求7所述的渐变防眩光盖板，其特征在于，所述渐变防眩光盖板的材质为玻璃材质。

9.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求7-8任意一项所述的渐变防眩光盖板。